高NH4Cl质量浓度下电镀Ni-P合金的研究.pdfVIP

高NH C1质量浓度下电镀 Ni—P合金的研究／冯 婧等 ·543 · 高NH4CI质量浓度下电镀 Ni-P合金的研究 冯 婧，朱有兰，詹柏林，陈 颖 (广东工业大学材料与能源学院，广州 510006) 摘要 通过添加适量的添加剂，采用正交试验方法，研究了高氯化铵质量浓度下在 Q235钢基体上低温电镀 Ni-P合金的工艺参数。实验得 出最佳工艺条件为：NiS04·6H2O40g／L、NaH2P()2·H2O30g／L、H3B()315g／L、 NH C132g／L、添加剂T10．12g／L、添加剂 T20．03g／L、添加剂 T30．1g／L、施镀温度 45℃、电流密度 0．015A／cm2、 pH：4。最佳工艺条件下所获镀层的EDS分析表明，镀层由靠近基体部位到镀层表面部位，P质量分数变化情况为 6．61 一7．18 一8．73 。随着离基体距离的增大，镀层显微结构由晶态向微晶转化，最后为完全非晶态。 关键词 电镀 Ni-P合金镀层 正交试验 非晶 StudyonElectroplatingNi—PAlloyinHighNH4ClConcentration FENGJing，ZHUYoulan，ZHANBolin，CHEN Ying (InstituteofMaterialsandEnergy，GuangdongUniversityofTechnology，Guangzhou510006) Abstract Byaddinghighconcentrationsofammonium chlorideandanappropriateamountofadditives，the processparametersofelectroplatingNi-PalloyplatingonQ235steelsubstratearestudiedatlow temperature．The optimalformulationisobtainedbyorthogonaltest：NiSO4·6H2O40g／L，Nali2POz·HeO30 L，H3BOa15g／L， NH4Cl32g／L，additiveT10．12g／L，additiveT20．03g／L，additiveT30．1g／L，platingtemperature45℃，current density0．015A／cm2，pH=4．EDSanalysisofthecoatingmadebyoptimalformulationindicates：from thepartnear substratetOthecentre，andfrom thecentretOthesurface，theweightpercentageofP ranges6．61 7．18 ÷ 8．73 ．Themicrostructureofthesecoatingschangefrom crystaltomicrocrystal，andfinallytocompletelyamor— phouswithincreasingdistancefomr thesubstrate． Keywords electroplating，Ni-Palloycoating ，orthogonaltest，amorph 1．2 工艺流程 0 引言 工艺流程为：打磨一冷水冲洗一超声波45℃碱洗一超声 板式换热器是一种高效、紧凑的热交换器，由一系列互 波 45℃水洗一超声波 45℃酸洗一超声波 45℃水洗一电镀 相平行、具有波纹表面的薄金属板相叠而成，主要用于单相 Ni—P合金一烘干一镀层性能检测l4]。 流的换热。板式换热器广泛应用于医药、食品、化工、电力、 恒定硫