高比表面Si02纳米材料的制备与表征.pdfVIP

· 162 · 材料导报 2011年 5月第25卷专辑 17 高比表面 SiO2纳米材料的制备与表征 王 峰，秦晓芳，郭振 良，任淑华，朱冬冬 (鲁东大学化学与材料科学学院，烟台264025) 摘要 以正硅酸 乙酯(TEOS)为硅源，十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)为表面活性剂，通过溶胶一凝胶法制备出 高比表面积二氧化硅纳米材料，并考察了CTAB对比表面积的影响。利用x射线衍射、傅里叶红外光谱、低温氮吸 附、扫描和透射电镜对所得样品的物相、结构、表面积及形貌进行了表征。结果表明，所得样品为无定形高比表面积 二氧化硅 ，比表面积随着CTAB量的增加而增大，最大可达 1001rn2／g。 关键词 高比表面积 二氧化硅纳米材料 溶胶一凝胶法 表面活性剂 PreparationandCharacterization ofHighSpecificSurfaceArea SilicaNanomateriais WANGFeng，QIN Xiaofang，GUOZhenliang，REN Shuhua，ZHUDongdong (SchoolofChemistryandMaterialsScience，LudongUniversity，Yantai264025) Abstract UsingTEOSandCTABassilicasourceandsurfactant，highspecificsurfaceareasilicananomaterials weresynthesizedfrom asol—gelroute．Thecrystallinephases，structure，surfaceareaandmorphologyoftheSiOz sampleswerecharacterizedbyX-raydiffraction，Fouriertransitioninfraredspectroscopy，N2adsorptionandscanning electronmicroscopy，andtransmissionelectronmicroscopy．Theresultsshow thatthesamplesmainlyconsistofamor— phoushighspecificsurfaceareasilica，andsurfaceareahasanincreasewithCTAB contentsextending．Thespecific surfaceareaofSi02powdersismorethan1001m2／g． Keywords highspecificsurfacearea，silicananomaterials，sol-gelmethod，surfactant 高比表面积SiO。是一种新型的轻质多孔非晶态无机纳 后高温煅烧，得到高比表面积SiO。粉体。 米材料。其由于具有巨大的比表面积、小尺寸效应、强黏合 1 实验 力以及优 良的光、电等性能，广泛应用于高分子复合材料、电 子封装材料、喷墨打印纸、塑料加工、催化剂和医药载体等领 1．1 样品的制备 域_l1]。因此，高比表面积二氧化硅纳米材料的制备具有广 分别称取不同质量 (3g、6g、9g和 12g)的十六烷基三甲 阔的应用前景。 基溴化铵 (CTAB)于烧杯中，加入无水乙醇，在磁力搅拌器搅 目前，高比表面积Sj0 的制备方法有许多，主要有硅酸 拌下使 CTAB溶解；待完全溶解后，再加入一定体积的正硅 钠法 1『]、超重力法[、化学沉淀法 ]、微乳液法_8]、化学气相沉 酸乙酯(TEOS)，搅拌 3~4min后，缓慢加入一定质量浓度的 积