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影响金刚石薄膜生长因素的研究.pdf
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7 影响金刚石薄膜生长因素的研究
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InvestigationofInfluenceFactorson DiamondFilm Growth ’
ShaoShumin LuXiangying YuJian DingLeii XiGuangkang
ZhangMeng ZhouZhiqiang LiShenglin PengHuajun ShaoMouzhou
(DeptofElectronSci~we，NankaiUniversity)
Abstract
DiamondcoatingoncarboloymetalwaspreparedbyHFCVD
． Itistoundthatmany {act0rs
suchaspretreatmentofsubstrate，theconcentrationofacetoneandthetemperatureoIhotfila—
meritandsubstratestronglyinfluencedthegrowthprocessandpropertiesoIdlamondfilm Finally
thebestgrowthconditionsofdiamondcoatingoncarboloymetalwa5found
．
摘 要 本文用HFCVD法对在硬质台金村底上生长金刚石薄膜的诸多影响因素，如材底的
关
金刚石不仅是已知的最硬材料，同时它还具有特别优异的光学、热学和电子学方面的性
能。如此之多的优异性能集于一身，使金刚石在机械、声学、光学及 电子工业中有着广泛的应用
前景。但天然金刚石储量少且价格昂贵，由于金刚石薄膜具有与金刚石相似的特性 ，因此世界
各国科学家以极大的兴趣与热情投入了金刚石的制备与研究工作，并不断开发出新的成膜方
法和应用领域，使之成为当今世界高科技迅速发展的一个重要方面。
对金刚石的研究已有两个世纪的历史了，直到80年代初，低压化学气相沉积 (CVD)金刚
石薄膜技术才取得了突破性进展。近 lO年来，金刚石作为一种功能薄膜材料 已开始在一些领
域应用。虽然人们发现了在除金刚石籽晶之外的其它衬底 (如金属Cu、Mo、W、Si等)同样可以
生长金刚石薄膜 。但是，对金刚石在非金刚石衬底表面的成核及生长机制并不十分清楚，这不
仅影
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