Nikon光刻机对准机制和标记系统研究.pdfVIP

第 3 期 微细加工技术 №. 3 2002 年 9 月 　　　　　　　　　 　　　　　　　　　 MICROFABRICA TION TECHNOLO GY Sep. ,2002 ( ) 文章编号 :1003 - 8213 2002 03 - 0044 - 04 Nikon 光刻机对准机制和标记系统研究 严利人 (清华大学微电子学研究所 ,北京 100084) 摘要 :套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一 。从应用角度探讨了 Nikon 系列 光刻机的对准方法 ,举例说明了众多对准标记在实际掩模版上的摆放原则 。 关 　键 　词 :套刻精度 ;对准标记 ;掩模版 中图分类号 : TN305 ·7 　　　文献标识码 :A 1 　引言