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光电工程
维普资讯
第29卷第5期 光电工程 Vo1.29,No.5
2002年 l0月 Opto—ElectronicEngineering OCt.2002
文章编号 :1003—501X(2002)05-0062-03
WDM用微镜片分光膜的镀制
朱 瑾,黄 伟,张云洞
(中国科学院光 电技术研究所,四川I成都 610209)
摘要:主要介绍 了光纤波分复用 (WDM)中用的分光膜的批量镀制工艺。在大量实验基础上,对
比不同膜系及膜料的选择,重点介绍 了工艺流程中的镀制、监控、检测等主要环节。制备的微镜
片性能稳定,已经完全达到用户的需求。 .
关键词:分光膜;镀膜技术;波分复用;微镜片
中图分类号:O484.1 文献标识码:A
CoatingofBeam SplittingThinFilm onM icro-LensUsedinW DM
ZHUJin, HUANGWei, ZHANG Yun—dong
(InstituteofOpticsandElectronics,ChineseAcademy
ofSciences,Chengdu 610209,China)
Abstract:Thetechnology forbatch—coatingbeam splittingthin film used in wavelenght division
multiplexing (WDM)ofopticfiberispresented.Onhtebasisoflargenumbersofexperiments,
comparingthedifferentfilm systemsandtheselectionoffilm materials,htemainlinkssuchascoating,
monitoringandinspectingofhtinfilmsduringhtetechnologicalprocessareemphaticallyintroduced.
Thepropertyoftheprepraedmicro—lensisstableandhteyhavefullyfulfilledhteusers’demand.
Keyword:Beam splittinghtinfilms;Coatingtechniques;W avelengthdivisionmultiplexing;M icro—lens
引 言
随着光纤通讯得到越来越广泛的运用,人们对光纤器件的性能、成本的要求越来越高。近年来发展起
来的波分复用 (WDM)使光通讯 向二维方向发展,即在 同一光纤中传输不同频率的光波,由此可以大大
提高通讯传输的信息量、降低通讯系统的生产成本。在波分复用中,光波的调制/解调器用来实现信号传输
中不同波长的合成和分解,是光通讯系统中的关键、核心器件n。另一方面,现今薄膜沉积设备和工艺技
术的提高,使人们能够进行高质量的多层介质膜的制备,能够研制各种滤光片、分光片,应用到滤波器和
其它器件 中。
目前光纤通讯中常采用的在长波段中的窗口波长分别是 131Ohm和 1550nm。我们生产尺寸大小为 3mm
×3mm)0.7mm的有精确分光比的微型分光片,要求光线45。入射时,在 1310~40nm的分光波段范围内,
它们的透过率为T=31-_4-1.5%。通过理论推导计算和长时间试验研制生产的不断改进和提高,目前基本上已
形成一套固定的生产镀制工艺流程,产品也完全能够满足客户的要求,并使生产具有一定的规模性。
1 原理及设计
介质分光膜 由于膜层几乎没有吸收,因此分光效率特别高。一般分光膜常用的设计为先找■个 M4膜
系,使其在中心波长处的反射率在正入射的情况下为所要求的值,再在膜系的前或后插入半波层
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