红外焦平面阵列非均匀性非线性校正新方法.pdfVIP

维普资讯 第35卷第4期 光 电工程 Vo1．35，No．4 2008年 4月 Opto-ElectronicEngineering April，2008 文章编号：1003—501X(2008)04—0121—05 红外焦平面阵列非均匀性非线性校正新方法 代少升 (重庆邮电大学 通信与信息工程学院，重庆 400065) 摘要：针对红外焦平面阵列非均匀性线性校正方法存在较大误差，而考虑非线性响应的校正算法又过于复杂，难 于在实际工程中获得运用等难题，本文提出一种易于硬件实时处理、校正精度较高的红外焦平面阵列非均匀性非 线性校正新方法。在介绍非线性校正新方法原理的基础上，推导出其数学模型，并给出实验结果。实验结果表明 该校正方法的校正精度达到 1-2％，校正过程中需要存储的参数仅为4个像／素，易于硬件实现实时校正。 关键词：红外焦平面阵列；非均匀性校．fi-；非线性响应 中图分类号：TN215 文献标志码：A NewMethodofIRFPANonuniformi~．Correction withNonlinearResponse DAIShao-sheng (TheCollegeofCommunicationandlnformationEngineering， ChongqingUniversityofPostsandTelecommunications，Chongqing400065，China) Abstract：AimingathavinglargeerrorinthelinearnonuniformitycorrectionmethodofInrfaredFocalPlaneArrays (IRFPA)andcomplexityalgorithm ofnonlinearnonuniformiytcorrectionwhichlimitsitsapplicationinactualproject，a newnonlinearnonuniformiyt correctionmethod，whichiseasytorealizereal-timecorrectionandhashigherprecision，is proposed．Based onprincipleofnew method，themathematicalmodelisestablished．Atlast，experimentalresultsare givenout．Theresultsshow thatithashighercorrectionprecision，lessparametersneededtostoreandeasytoimplement real-timecorrectionbyhardwarecircuit． Keywords：IRFPA；Nonuniformiytcorrection；nonlinearresponse 1 引 言 红外焦平面阵列成像系统是红外成像技术发展的趋势，但由于受材料和工艺水平的限制，红外焦平面 阵列(IRFPA)各探测单元响应特性之间普遍存在着非均匀性，它将导致红外成像系统的温度分辨率等性能显 著下降，以至使其难以满足红外成像系统的使用要求，因而工程中使用的红外焦平面阵列几乎毫无例外地 都采用非均匀性校正技术uj。 尽管 目前有关红外焦平面阵列非均匀性校正方法多种多样，但总体上可以分为两类：一是基于标定的 校正方法；另一类是基于场景的校正方法 J。其中标定类校正方法又可以分为线性校正方法和非线性校正 方法，而线性校正方法是建立在红外焦平面阵列探测单元在整个工作区间内的