氟化物激光晶体Nd^3＋：LiYF4的坩埚下降法生长.pdfVIP

维普资讯 第 15卷 第 5期 无 机 材 料 学 报 Vol 15 NO 5 2000年 lD月 JournalofInorganicM aterials Oct．2000 文章编号：1000—324X(2000)05-0917-04 ／ 氟氟化化物物激激光光晶晶体体 NNdd3+：：LiYF4的的坩坩埚埚下下降降法法生生长长 (中国科学院上海硅酸盐研究所费上叠海200孙050)英 ，7．z(。 科 7 ≥j 摘 要 ：本文报道 了氟化物激光 晶体 N ：LiYF4的坩埚下降法生长工艺 ．采用经氟化处理 的无水氟化物原料 ，按照 LiF：YF。=515：485的比倒配料 控制炉体温度于 920~960。Ct 晶体生长速度为 D4～D．8mm／h，通过密 闭条件下