负性SiO2／ZrO2光敏凝胶薄膜上引入微结构的研究.pdfVIP

维普资讯 第 21卷 第 3期 无 机 材 料 学 报 Vo1．21，NO．3 2006年 5月 JournalofInorganicM aterials May，2006 文章编号：1000—324X(2006)03—0753—06 负性 SiO2／ZrO2光敏凝胶薄膜上引入微结构的研究 徐 翔，周 斌，刘春泽，沈 军，吴广 明 (同济大学波与材料的微结构重点实验室，波耳 固体物理研究所，上海 200092) 摘 要： 以锆酸丁酯及乙酰丙酮、苯 甲酰丙酮为原料，经溶胶 一凝胶工艺，制备具有负性光刻 胶性质的ZrO 光敏溶胶，在将其与正硅酸乙酯通过水解缩聚反应复合，采用浸渍提拉法在基 片上制得折射率在 1．463,-~1．647之间连续可调的SiO2／ZrO2二元光敏凝胶薄膜．其敏感波长 在 335nm 附近．通过 FTIR分析，发现凝胶薄膜中含有 SiO zr、z卜O的特征振动峰，证 明 SiO2与 ZrO2两相在分子尺度上形成了微观组分均匀的薄膜．利用掩模板结合紫外曝光及显影 工艺在凝胶膜上转移了光栅等表面微结构图形． 关 键