镀层和氧化膜厚度的显微镜测量技术.docVIP

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  • 2015-08-24 发布于重庆
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镀层和氧化膜厚度的显微镜测量技术.doc

镀层和氧化膜厚度的显微镜测量技术.doc

镀层和氧化膜厚度的显微镜测量技术 -   0 前言   覆盖层厚度是表征覆盖层品质(优劣)的重要参数之一,因此,在科学研究、工艺控制和产品质量检测中常常要对覆盖层厚度进行测量。覆盖层厚度测量方法较多,主要有涡流法、磁性法、库仑法、显微镜法(金相法)、扫描电子显微镜法、轮廓仪法、X射线光谱法等,其中横断面厚度显微镜测量法是较早采用的光学测量法。该方法直观,重现性好,因而在国内外广泛应用。   1 GB/T6462-2005标准简介   GB/T6462-2005标准由中国机械工业联合会提出,并列入2003年机械工业科学技术发展计划(机械工业标准制订、修订部分)。由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会归口,武汉材料保护研究所、宁波永新光学股份有限公司负责起草。该标准于2003年底完成并通过标委会审查,同年上报。2005年6月23日国家质量监督检验检疫总局和国家标准化管理委员会联合发布了该标准。GB/T6462-2005标准等同于ISO1463:2003[8],同时也是对GBPT646221986《金属和氧化物覆盖层横断面厚度显微镜测量方法》的修改。标准对横断面显微镜法测量电镀层和氧化膜厚度的原理、横断面制备、测量、测量不确定度及其影响因素、实验报告等进行了全面的描述和规定,共分9章和3个附录(资料性附录)。   与GB/T6462-1986相比,该标准修改了标准的名称并增加了适用范

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