时间依赖性雾(TDH)的产生机理及其消除方法1.pdfVIP

工Plo。垫∞鼹T术~ml与iau~an材dMa料terielstJ，■‘ doi：10．3969／j．issn．1003-353x．2009．07．13 时间依赖性雾 (TDH)的产生机理及其消除方法 赵丽霞 ，陈秉克 ，张鹤鸣 (1．河北普兴电子科技股份有限公司，石家庄 050200； 2．西安 电子科技大学 微 电子学院，西安710071) 摘要：阐述 了Si片表面时间依赖性雾的形成过程 、分布 、形状、密度及识别和去除的方法。 通过同样流程清洗、不同条件干燥处理 的 si片在不同湿度条件下储存的实验 ，指 出了时间依赖 性雾是H与掺杂原子的联合体以及雾是Si片表面与H20或 O2反应生成 SiO2颗粒两种解释的不准 确性。提出了时间依赖性雾是含有离子或有机物沾污的水汽在 si表面浓缩而形成的光散射 。在 总结和比对分析实验结果的基础上 ，得到 了控制时间依赖性雾的生成、延长si片存储时间的有 效 方法 。