衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响.pdfVIP

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2015-08-29 发布于重庆
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衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响.pdf

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衬底温度对磁控溅射制备外延ZnO薄膜结构特性的影响.pdf

: ZnO 735 * ZnO 1 2 1 1 3 1 周阳, 仇满德 , 赵庆勋 , 李晓红, 彭英才 , 刘保亭 ( 1. , 071002; 2. , 071002; 3. , 071002) : 在不同的衬底温度下, 采用磁控溅方法在 550 ( 0001) ZnO , 蓝宝石( 0001) 衬底上制备了外延生长的ZnO 薄膜 , [ 5] 采用原子力显微镜( AFM) X 线衍仪( XRD) 可 Liu 见紫外分光光度计系统研究了衬底温度对ZnO 薄膜 ( 000 1) 微观结构和光学特性的影响AFM 结果表明在不同 ZnO , ZnO ( 衬底温度制备的ZnO 薄膜具有较为均匀的ZnO 晶粒, ) [ 6] 且晶粒的尺寸随衬底温度的增加逐渐增大XRD 结 Suvorova 果显示不同温度生长的 ZnO 薄膜均为外延生长, ( 000 1) ZnO , 400 生长的薄膜具有最好的结晶质量; 光学透谱显示在370nm 附近均出现一个较陡的吸收边, 表明制备 , 的ZnO 薄膜具有较高的质量, 其光学能带隙随着衬底 , 温度的增加而减小 ( T s ) ( 0001) : ZnO ; ; ; ZnO : O484. 4 : A , : 2009) ( 000 1) ZnO X ( XRD) ( SPM) 1 ZnO , , GaNZnS , ZnO 2 , 60m V, , 60mm , 5mm ZnO , ZnO , ( 99. 9%) , ( 0001) , , , 10min, ZnO , 45mm4 10- 4 Pa , [ 1~ 3] , ZnO , 25 75ml/ min, [ 4~ 6] [ 7] ( PLD) 2Pa50W, 20min ( M BE) [ 8] , ZnO