TiNSi3N4纳米多层膜硬度对Si3N4层厚敏感性的研究.pdfVIP

下载本文档

3
0
约 7页
2015-09-02 发布于湖北
举报
版权申诉

TiNSi3N4纳米多层膜硬度对Si3N4层厚敏感性的研究.pdf

1、本文档共7页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

TiNSi3N4纳米多层膜硬度对Si3N4层厚敏感性的研究.pdf

第43卷第2期仓扁学玫 V01．43NO．2 ACTAMETALLURGICASINICA Feb．2007 2007年2月第154—158页 PP．154—158 敏感性的研究赵文济孔明乌晓燕李戈扬 (上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室，上海200030) 摘要显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和硬度，研究了其硬度随Si3N4层厚微小改变而显著变化的原因． niil时被强制晶化为NaCl 结果表明，在TiN调制层晶体结构的模板作用下，溅射态以非晶存在的Si3N4层在其厚度小于0．7 结构的赝晶体，多层膜形成共格外延生长的{111}择优取向超晶格柱状晶，并相应产生硬度显著升高的超硬效应，最高硬度达到 38．5 GPa．Si3N4随自身层厚进一步的微小增加便转变为非晶态，多层膜的共格生长结构因而受到破坏，其硬度也随之降低．关键词TiN／Si3N4纳米多层膜，外延生长，晶化，超硬效应中图法分类号0484．4 文献标识码A STUDYoNTHESENSITIVITYoFHARDNESSoF NANo—MuLTILAYERsTo TiN／Si3N4 Si3N4 LAYERTHICKNESS ZHAO Ming,ⅣUXiaoyan,LIGeyang Wenji,KONG State ofMetalMatrix 200030 University，Shanghai KeyLaboratory Composites，ShanghaiJiaotong gyli@sjtu．edu．cn Correspondent：LIGeyang，professor,Tel：r021E-maih NationalNaturalScienceFoundation Supportedby of 062) China(No．50571 received revisedform2006．09—12 2006—05-29，in Manuscript ABsTRACT withdifierentmodulationthicknesseswerereac— TiN／Si3N4nano—multilayers Si3N4 inorderto the ofhardnessof tivelydepositedbymagneticsputtering studysensibility TiN／Si3N4 onthe of N4thickness．Themicrostructureofthe was multilayerschangeSi3 multilayers to withXRD．HRTEMandSEM．Ananoindentorwasintrodu