内氧化CuAl2O3界面热力学与杂质效应.pdfVIP

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2015-09-02 发布于湖北
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内氧化CuAl2O3界面热力学与杂质效应.pdf

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内氧化CuAl2O3界面热力学与杂质效应.pdf

第23 卷第11 期中国有色金属学报 2013 年11 月 Vol.23 No.11 The Chinese Journal of Nonferrous Metals Nov. 2013 文章编号：1004-0609(2013)11-3154-11 内氧化Cu/Al O 界面热力学与杂质效应 2 3 1, 2 1 1 1 江勇，蓝国强，王怡人，周松松 (1. 中南大学材料科学与工程学院，长沙 410083 ； 2. 中南大学有色金属材料教育部重点实验室，长沙 410083) 摘要：基于第一性原理方法，研究温度、原子化学配比、Al 活度、O 活度和杂质偏聚对内氧化 Cu/Al O 界面 2 3 的影响作用。计算得到的界面相图及相应能量学结果表明：界面平衡相结构随制备气氛的变化而变化；富O 相界面的结合强度最高，富Al 相界面的结合强度其次，它们均约3 倍于理想化学配比相界面的结合强度；杂质S 对界面的危害性明显，对富Al 相和理想配比相界面具有强烈的偏聚能力，且严重削弱界面强度(约可达65%)，并降低氧化铝颗粒尺寸的稳定性，但S 不能向富O 相界面偏聚；相较于S，另一种杂质P 向富Al 相和理想配比相界面的偏聚能力不强，偏聚后对界面的危害性也较S 弱。但P 能向富O 相界面偏聚，使界面强度严重降低。关键词：Cu/Al2O3 界面；内氧化；结合强度；杂质偏聚；第一性原理中图分类号：TG146.1 文献标志码：A Interfacial thermodynamics and impurity effects on internally oxidized Cu/Al O interface