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单靶磁控溅射Cu1-xCrx(x=1.19～2.37)薄膜的制备.pdf
第16卷第11期 中国有色金属学报 2006年11月
V01．16No．11 The ofNonferrousMetals NOV．2006
ChineseJournal
文章编号：1004—0609(2006)11—1876一06
王新建，姜传海，王家敏，洪 波
(上海交通大学材料科学与工程学院高温材料及测试教育部重点实验室，上海200030)
摘
研究不同名义成分的合金靶材得到的溅射态薄膜的成分、电学性能、组织结构及表面状态。研究结果表明：利用
简易合金靶材制备的Cu。…Cr薄膜成分可控。Cr的加入增强了溅射态薄膜的(111)织构，且随着薄膜厚度的增
加，(111)织构增强；855
射态薄膜的表面状态(平整性和致密度)和电阻率；随着Cr含量的增加，前者呈现先升高后下降的趋势，而薄膜电
阻增加；Cu一2．18％Cr薄膜由于应力增加局部产生微裂纹，薄膜连续性下降。并从薄膜生长动力学以及自由能的
角度对上述结果进行了初步的阐述。
关键词：Cu，…Cr薄膜；磁控溅射；溅射态；织构
241．1 文献标识码：A
中图分类号：TM
of
Preparation by
magnetronsputteringsingletarget
Bo
WANG Chuan—hai，WANGJia-min，HONG
Xin-jian，JIANG
of ofEducationfor Materialsand
(KeyLaboratoryMinistry HighTemperature Testing，
SchoolofMaterialsScienceand Jiao
Engineering，ShanghaiTongUniversity，
200030，China)
Shanghai
onthe
films(x=1．19—2．37，molefraction，％)were Si(100)substrate
Abstract：Cul--xCk deposited bymagne—
tron a concentration，electrical and
sputteringusingsinglealloytarget．The resistivity，microstructuremorphology
Crconcentrationwere resultsshow the
offilms withdifferentnominal that
depositedbytargets investigated．The
concentrationsoffilmsare intensifiesthe(1l1)texturewhichincreaseswith thi
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