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双离子束溅射制备非晶SiOxNy薄膜的强黄光发射.pdf
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origin yellow。light amorDn0US
thinfilms ed dualionbeam
oxynitride preparby sputtering。
xue-meil”，zHuGE
Hual”，WU
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of 215006，China；
(1．DepartmentPhysics，SuzhouUniversity，Suzhou
2．IonBeam Instituteof andInformation
Labomtory，ShanghaiMicrosystem Technology，
chinese of 200050·china；
Academyscience．s11anghai
and Centre，Suzhou 215006，China)
3．TestingAmlysis University·Suzhou
this the of filmsare
Abstract：Inwork，resultsof onthestructureand
study photoluminescence(PL)propertiesSi()c：也thin
Thefilmswere atroom adualionbeam TheXRDandTEMre—
system．
presented． depositedtemperatureusing co-sputtering
sultsshowthatthe filmshavean structure．1ntheXPSresult，wefindN1s consistsofa
deposited amorphous spectrum symmet—
ric at thatthe atomsare bondedtosilicon．Itisin withthere—
singlepeak397．8eV，whichindicates nitrogen mainly agreement
sultofFrIR．Fromthe measurement，wefindthatthe band of filmiswidenedcom—
opticalabsorption op
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