TiNAlN纳米多层膜的制备和耐蚀性能.pdfVIP

第40卷第9期 材料保护 v01．加No．9 2007年9月 MateriaIsProtedion seD2007 TiN／AlN纳米多层膜的制备及耐蚀性能 潘应君1，陈淑花2，周青春‘．昊新杰1 [摘要]采用多弧离子镀技术制备了TiN／AlN纳米多层膜，并通过多层膜在酸中的浸泡试验厦极化 铝的钝化作用覆薄膜的特殊层结构，TiN／AIN纳米多层膜比TiN薄膜具有更优良的耐腐蚀性能。 [关键词]多弧离予镀；TiN／AlN薄膜；耐蚀性 [中图分类号]TGl74．444[文献标识码]A O前言 积的左右靶，通过旋转试样架的方法来制备多层膜，并 TiN涂层是目前工模具表面硬化涂层的主要形式， 且试样架转速连续可调，可制备不同厚度的纳米多层 各种技术制备TiN薄膜的研究有很多，并已进入工业 膜。 应用。但TiN的硬度和抗氧化温度不高，在特殊环境 1．2耐蚀性试验 下使用时容易氧化失效。研究发现，在TiN中添加其 nm的TiN／AlN 浸泡腐蚀试验试样选用厚度为3．7 他元素(cr、Al、zr、c、si等)或者进行多层化(TiⅣ／VN、 纳米多层膜和相同试验条件下制备的TiN膜，腐蚀液 7riN／crN等)处理都可有效改善涂层性能。TiN／A1N纳 米多层膜是在TiN薄膜基础上发展起来的一种综合性 为20％的盐酸溶液。将试样放人腐蚀液中浸泡，每隔 能更优良的超硬膜”1，目前已成为薄膜研究中的重点 一定的时间将试样取出清洗后烘干，然后用精度为 研究课题之一。本工作采用多弧离子镀技术制备了 o．ooo1 g的电子天平称重并计算单位面积的质量变 化。 TiN薄膜和TiN／AlN纳米多层膜，对比研究了TiN／AlN 纳米多层膜和TiN薄膜的耐蚀性能，并对TiN／A1N纳极化曲线采用cHl600A系列电化学分析仪测定， 米多层膜的耐蚀机理进行了探讨。 辅助电极为铂电极，参比电极为甘汞电极。试样工作 面积为1cm2，其余部分用松香固封。试验温度为16 1试验 m01／L ℃，将处理好的试样置于装有l HCl的电解池 内，浸泡lOmin待电位趋于稳定后，进行极化曲线的测 1．1 T矾／AlN纳米多层膜的制备工艺 定。阴、阳极极化曲线测定时扫描幅度为200mV，电位 (1)试样基体材料为w18C—V，在DHIs00多弧离 扫描速度为1mV／s。 子镀设备上沉积TiN／A1N纳米多层膜； 2试验结果及分析 (2)烘烤温度300qc，本底真空度(1—2)×10。Pa； min，轰击到5002．1 (3)靶的溅射清洗(时间7—10 TiN／AlN薄膜的表面形貌观察 qc，气压2—4