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第 卷 中 国 激 光 光学前沿———光电技术
36
年 月 专 刊
2009 12
犆犎犐犖犈犛犈犑犗犝犚犖犃犔犗犉犔犃犛犈犚犛
文章编号: ( )
0258u lement2036404
pp
犐狀犌犪犣狀犗多晶靶材制备与薄膜生长的研究
陈江博 王 丽 苏雪琼 孔 乐 刘国庆 张新平
(北京工业大学应用数理学院,北京 100124)
摘要 对于 材料作为沟道半导体的薄膜晶体管柔性显示器件的研究倍受关注。将 , , 高
InGaZnO GaO InO ZnO
2 3 2 3
纯度粉末按一定比例混合,经过研磨、预烧、研磨、压模和烧结,利用常压固相反应烧结法制备了直径为 30mm,厚
度为 高质量的 陶瓷靶材,并对 靶材进行了 射线衍射( )测试。采用脉冲激光沉积
5mm InGaZnO InGaZnO X XRD
的方法,一定温度下在石英玻璃衬底上生长了InGaZnO薄膜,并对薄膜进行原子力显微镜、透射光谱与霍尔效应的
测试与表征,制备出具有高平整度、高透射率与优异电学性质的透明氧化物半导体( )薄膜,为进一步对
TOS
InGaZnO薄膜的制备与分析提供良好的实验数据支持。
关键词 薄膜;透明氧化物半导体; ;固相反应;脉冲激光沉积
InGaZnO
中图分类号 文献标识码 : /
O484.1 A 犱狅犻10.3788犆犑犔200936狊2.0364
犐狀狏犲狊狋犻犪狋犻狅狀狅犳犐狀犌犪犣狀犗犘狅犾犮狉狊狋犪犾犜犪狉犲狋犉犪犫狉犻犮犪狋犻狅狀犪狀犱
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