光纤与单模光纤平面光波导的耦合技术.pdf

箍 专 辔费 榭 维普资讯 ～ ＼＼ 亨望搓巍 瞧披叠曲掇盒技 f{；，皋叠 摘 要 l { 为了能使光纤与荜横二氧札硅基踱．导耦合 ，在 一 基 中制造了光纤导向槽作为波导回路。这些槽可成功地用来糨 合光纤与波导。 带八个阵列式导向槽获得了每个接 口O．6dB 的平均光纤一波导耦台掼耗 并可颈辩：该损耗将进一步降 低到每接 口目．2dB。在一10C～+5O℃的热循环过程中，耦合 损耗的变化为±目．3dB。 具有分路、转换和波份复用或频分复用功能的光器件，在光通信系统的构成 中起着重要作用，波导型器件体积小，并能高可靠地提供这些功能。这些器件中 在硅基片上使用二氧化硅基光波导的那些器骨展示了良好的前景。其主要原因是 0箍 l--0， 罚竞 毫 f 屯式奄嚣、马茧一泽德干涉仅和光开笑 E二雏藏砖 遗 酝 ．乎运曼验 证了大规模曲NxN星形耦台器。为了把这些 集成的PLc器件应用予光通信系统 则必须寻求一种简单而有效地把它们与光卦 耦合的方法，因为这些器l件可能包台效百个需要连接的输入／输出端口。对接耦 合是一种广泛使用的方法 此法用牯结鼎和( )激光焊接使光纤和渡导篇_停的端 面连接在一起 。但是，这种方法有两个缺点；一个是必须进行有敢的对准； 男一 个是这种器件必须用可能产生应力的外壳进彳予保护。为克服谊些缺点，我们 已采 用在同一基片中形威的光纤导向槽诈身光路 用以与二氧化硅基光波导实现光纤 — 波导的耦告。 在本文中，我们介绍一种简单丽实用妁光纤一被导耦台方法，它使用导向槽 作为硅基片上的二氧化硅基坡’导。 。 盘荭星直擅些萤趋塑运盐 二氧化硅基波导有两种导向稽结构。一种是用于脊形波导的导向槽。以前曾 投导慧在脊形波导上的光野导向稽 但是，具有光纤辱向楷的脊形波1导并不实用。 融匀芭船具有较高的传播损耗，并且不能构戒定向桶台器。丽且 连接时必须用 ：j叠 6“m鼬缨单模光纤 而我们提出了用于堙置渡导的翁构。采用此结构我 已或均地开发了多种光嚣件 捌如分路器、马赫——释德干涉倥和光开关。 附图表示这种新导向槽的结构。导向槽的设计宽度w0为126 lit 它比光纤 维普资讯 ) 。 。 L ● 附图：(a)顶视图(b)横截面图 其中wo=i26 in W，= l50 m · D=24 m ，Da=38．5u in 宽i ：n．所以光纤能青便地插入槽中 计算结果表明：用低的△波导，这一余量 旃靛靛福 损耗 0．1船。为了能使粘结箭方霞垃盖 嚣卞 槽可 热竟刭靠近 。 波导端面的l50 m(Wi) 为使倾角限毒事在r 的范围内，稽的长度取3丑丑l，导向 槽之间的间距P取2湘 m，以保持与商告带状光钎的兼窖性。 当波导芯为8 K8 m 而下面包层厚zD．m时，波导芯的中心位于si基片表面以上24 II】(DI)。 sl槽曲课度Bz设定为38．5 m，以便使波导的中心与l25 Ill直径的光纤对中。 红昱自揖 蛰i直 导向槽的制造工艺是：下面的包层和芯层是用火焰水解沉积(FBD)法沉积的 其厚度分别为2O m和8 in，折射率差为0．25 用反应离子蚀刻形成8 m宽 的波导。用于使导向槽中心与波导中心对准的对中标志 也是在芯层中形成的。 波导是用FIID法沉积的3O II】犀的顶都包层疆盏的。 然后通过蚀刻将对中标志图 形转移到顶都包层的表面。在埋置式波导上