微波ECR等离子体高速溅射装置的研制.pdf

第 27 卷 第 2 期　 　　　　　华　中　理　工　大　学　学　报　　　　　　　V o l. 27　N o. 2 1999 年　2 月　　　 　　　　J. H uazhong U niv. of Sci. T ech. 　　　 　　 　　Feb. 　 1999 微波 ECR 等离子体高速溅射装置的研制 汪建华　袁润章 邬钦崇　任兆杏 武汉工业大学 　 中科院 材料复合新技术国家重点实验室 等离子体物理研究所 摘　要　研制了一台高速率溅射的 ECR 等离子体沉积装置. 采用微波真空波导及反常模式或输入技术, 利用 腔内双靶构成的电场镜, 使高能 电子在电场镜中振荡, 从而获得高密度的等离子体. 并且, 导电膜能连续高 - 2 速沉积, 在 2. 7 ×10 的低气压下, 铜膜的沉积速率可达 120 . Pa nm m in 关键词　ECR 等离子体; 高速溅率; 电场镜 分类号　TN 304. 05 　　用微波 ECR 溅射技术已成功地制备出高质 150mm , 共振腔外绕有冷却腔体的通水铜管, 在 量的 , , 和 薄膜[ 1, 2 ] , 然而, 采 共振腔与沉积腔之间设置一平面靶 120 , 圆 ZnO A lN A l2O 3 T iN mm 用常规的 溅射法在溅射过程中, 金属粒子会 筒靶 70 ( 圆筒靶长 60 ) , 两靶之间的距 ECR mm mm 覆盖微波输入窗口, 影响装置的正常工作, 必须要 离可以调节, 靶基座和圆筒靶之间放有软铁环和 定时更换石英窗口. 另一方面, 由外磁场在腔内产 不锈钢环, 工作气体为A r, 靶材为 Cu , 共振腔内 生的磁通会穿过圆筒靶表面, 绕着磁力线作圆周 产生的等离子体由发散场引入沉积室, 等离体诊 或螺旋运动的电子, 很容易撞在腔壁被复合消耗, 断使用单探针. 使靶的溅射速率低, 影响薄膜的沉积速率. 为此, 1. 2　磁控方式溅射用的圆筒靶结构 研制了一台新型的 ECR 溅射装置. 本文介绍该装 将筒状靶设计成磁控溅射的方式, 即利用磁 置的原理、结构和性能, 研究了装置的溅射放电特 场来改变电子的运动轨道将它较长时间地约束在 性及在薄膜制备中的初步应用. 靶表面附近, 这样不但可以减少电子的散失和消 耗, 而且还可以增加它在靶上的运动路程, 使电子 1　实验装置及靶的结构特点 与等离子体的碰撞几率和离化效率增加, 从而提 高气体的离化率. 1. 1　实验装置 圆筒状溅射靶结构示如图 2, 靶与一个接地 由图 1 可见, 频率为 2. 45 GH z 的微波, 经过 直流电源的靶基座相接, 并且用水冷却靶基座, 靶 由5 个支持环支撑, 四个用软铁制作, 中间的用不