浅析磁控溅射镀膜中旋转阴极的优缺点.pdfVIP

VACPRO 浅析磁控溅射镀膜中旋转阴极的优缺点    黄新盈  深圳市微普诺薄膜技术有限公司（0755）      磁控溅射旋转阴极在现今大面积玻璃镀膜中广泛采用，与平面阴极相比，各有其优缺点。本 文尝试对旋转阴极的优缺点进行以下分析。    旋转阴极的优点主要有以下几点：  1 靶材利用率高，可达90% 。同时也意味着更长的运行时间。  2 溅射速率高（通常是平面阴极的2‐3 倍，具体视靶材种类而定）。  3 有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。可以消除平面靶较易形成的再沉积区，这些被 污染的靶面，极易产生掉渣然后落到玻璃基板上。同样这些地方很容易产生打弧，打弧又造 成了更多掉渣和大颗粒的形成。所以旋转阴极消除了再沉积区，从而保证了镀膜工艺的长期 稳定性。  4 无需“烧靶”，可以节省靶材消耗和烧靶时间。  5 快速便捷的换靶操作，在某些设计简捷的旋转阴极上可以实现,如美国SCI 公司等。这对配 备多个旋转阴极的镀膜生产线特别有意义，节省时间意味着产能的提升。  6 低熔点靶材亦能使用高功率溅射（包括所以材料）。因为靶材旋转，所以靶面没有一直处 于等离子体区内，使溅射速率得以提高。  7 旋转靶材比平面靶材更加昂贵，但其极高的靶材利用率使得旋转靶的性价比更好。    而旋转阴极的缺点主要是：  1 旋转阴极更加复杂，需要更多部件，需要驱动系统配合。所以最初的设备投资要高于平面 阴极。  2 旋转阴极有移动部件，生产中真空密封不时会有泄漏，即便是成熟的旋转阴极，能够可以 做到简单，最小程度的更换密封，但相比平面阴极而言，仍需要更高的维护成本。  3 旋转阴极增加了系统中的不稳定因素，因为在生产中需要不停的旋转。      VACPRO 结论    旋转阴极在大面积玻璃镀膜工业中，特别是Low‐e 镀膜中扮演了重要的脚色。因为旋转阴极 解决了平面阴极掉渣和靶材利用率的问题，并且提高了溅射速率。但虽之而来的是增加了阴 极机构的复杂性和初期投资。旋转阴极所带来的好处将在后续的长期生产得到充分体现。  至于靶材成本，需要分别比较分析每种靶材的制造成本，利用率，回收价值…等因素来综合 考虑。而相对于获得更快，更稳定，更清洁镀膜工艺而言，由于靶材所增加的成本几乎可以 忽略。    附表    AZO 旋转靶比较    AZO  平面和旋转AZO 陶瓷靶比较：    虽然平面阴极和靶材价格便宜，但旋转靶利用率高，功率密度大，尤其是AZO 陶瓷靶制造 成本高且无回收价值，综合考虑推荐使用旋转靶。  详见下表（数据来源—美国Process material Inc 公司）           VACPRO AZO 旋转靶溅射参数  Target Material  AZO  Power  DC  Style  Bonded  Backing Tube ID (mm)  125  Backing Tube OD (mm)  133  Target Nominal OD (mm)  160  Target Ma