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放电电压对直流热阴极制备金刚石厚膜的影响.pdf
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第 40 卷 第 3 期 河南大学学报 自然科学版 Vol . 40 No . 3
20 10 年 5 月 J ournal of Henan U niver sit y (Nat ural Science) May 20 10
放电电压对直流热阴极制备金刚石厚膜的影响
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陈庆东 ,杨传径 ,毛爱霞 ,姜志刚 ,刘才龙
( 1. 河南科技大学 理学院 ,河南 洛阳 47 1003 ; 2 . 吉林大学 超硬材料国家重点实验室 ,长春 1300 12)
μ
摘 要 : 利用直流热阴极辉光放电方法制备出了高品质金刚石厚膜 ,生长速率达到 20 m/ h ,生长厚度达到 3 mm .
为了解其工作特性 、优化沉积工艺 ,本文研究了放电电压对金刚石沉积速率和品质的影响. 通过对扫描电镜 、拉曼
谱和 XRD 图谱分析得出 ,随着放电电压的增加 ,沉积速率呈下降趋势 , 电压在 850～950 V 范围金刚石中石墨和非
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晶碳明显减少 ,晶粒均匀 ,表面晶向以 110 为主 ,金刚石薄膜的质量显著提高.
关键词 : 直流热阴极辉光放电;金刚石厚膜 ;放电电压
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中图分类号 :O484 文献标志码 : A 文章编号 : 1003 - 4978 20 10 03 - 0248 - 04
Influence of Discharge Voltage on Preparation of Dia mond Thick Fil m
by Hot Cathode Direct Current Glow Discharge
C H EN Qingdon g1 , YAN G Chuanj ing1 , MA O Aixia1 , J IAN G Zhigang2 , L IU Chailong2
( 1 . S cience Col leg e , H enan Uni ve rs i ty of S cience an d Technology , L uoy ang 47 1003 , Chi na ;
2 . S t ate Key L aboratory of S up e rha r d M ateri als , J i l i n Uni ve rs i ty , Chang chun 1300 12 , Chi na)
Abstract : Diamond film of high qualit y wit h t hickness of 3 mm ha s been depo sit ed by hot cat hode direct current glow
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di schar ge at growt h rat e of 20 m
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