磁控溅射钛膜的沉积过程及表面形貌研究.pdfVIP

第 28卷第2期 西 华 大 学 学 报 (自 然 科 学 版 ) 2009年3月 Vo1．28，No．2 JournalofXihuaUniversity ·NaturalScience Mar．2oo9 文章编号：1673—159X(2009)02-0092-04 磁控溅射钛膜的沉积过程及表面形貌研究 李 丽 ，吴 卫 ，金永中 ，于 越 (1．西华大学材料科学与工程学院，四川 成都 610039；2．四川理工学院，四川 自贡 643000) 摘 要：实验研究了在磁控溅射工艺的溅射功率和工作压强恒定的情况下，薄膜在基底表面的沉积及生长的过 程。结果表明，在溅射参数恒定、Ti膜尚未连续的情况下，薄膜的覆盖率的对数与时问基本成正比关系，即薄膜的覆 盖率随时间指数增加。在薄膜连续后，出现晶粒长大并合并的现象。薄膜的生长方式为先层状生长再岛状生长。 关键词：真空技术； 膜；磁控溅射；表面形貌 中图分类号：TG172 文献标识码：A Research onFormingProcessand SurfaceTopographyofTiThin Film DepositedbyM agnetronSputtering LILi，WUWei，JINYong—zhong ，YUYue (1．SchoolofMaterialScienceandEngineering，XihuaUnivemity，Chengdu610039； 2．SichuanUniversityofScienceEngineering．Zigong643000China) Abstract：TheresearchonformingprocessandsurfacetopographyofTithinfilm depositedbymagnetronsputteringisconducted． Th eresultsobtainedshow that，whentheparametersofworkingpowerandpressureofargonkeepconstantduringmagnetronsputtering， thelogarithm ofthepercentageoffilm coverageonthebasematerialisdirectproportionaltothetimeatinitiationofsputtering，thatis， thepercentageoffilm coverageonthebasematerial increasesaccordingtoexponentialrulewithtime．Thepercentageofcoveragein— creaseswiththeincreaseinsputteringtimeuntilTithinfilm becomeslinking．Thereappearsthephenomenonofcrystalamalgamation intheprocessofgrowth． Keywords：vacuum ；Tithinfilm；magnetronsputtering；surfacetopography 0 前言 锈钢膜的生长过程利用原子力显微镜进行了观察分 析 j。不过，对于磁控溅射工艺条件下Ti薄膜生长 钛及其合金具有强度高、耐腐性能好，良好的生 界面及形貌的研究情况鲜有报道。 物相溶性等优点，是军事、航空航天、现代生命科学 利用磁控溅射技术在云母表面溅射纳米金属 等领域中的重要材料。Ti膜作为二维材料，有许多 Ti薄膜