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磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响.pdf
411 VACUU Vol. 41, No. 1
20041 Jan. 2004
磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响
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王 , 余欧明, 杭凌侠 , 赵保平, 王忠厚
( 1. , 7 10068; 2. , 315400;
3. , 7 10032)
: ,
, , ,
,
: ; ; ;
: T B43; O484: B: 1002-0322( 2004) 0 1-0009-04
Influence of the workinggas pressure on the depositionrateinmagnetron
sputtering forthincoating
1 2 3 1 1
WANG Lin , YU Ou-min , HANG Lin -xia , ZHAO Bao-pin , WANG Zhon -hou
( 1.X ian Inst itute of Op t ics and Precis ion M echanics of Chinese A cade my of Sc iences, X ian 7 10068, Ch ina ;
2. Zhej iang S unny Group Op tics Co. L td , Yuy ao 315400, China; 3.X ian I nstitut e of Techno ogy , X ian
710032, China)
Abstract: Deposition rate is an important parameter in ma netron sputterin and influenced by many factors. The deposition
rate under different w orkin as pressure is experimentally survey ed in order to find out t he relation betw een deposition rate
and w orkin as pressure. It is found that there is a max imum deposition rate correspondin to an optimum workin as
. . ,
pressure T he result is analyzed by usin as dischar e theory In this w ay it is indicated that how to improve thin coatin
deposition efficiency and establish the mathematical model between deposition rat e and w orkin as pressure.
Key words: ma netron sputterin ; coatin ; deposition rate; w orkin as pressure
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, , 1. 1
[ 12]
,
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