电纺直写纳米纤维在图案化基底的定位沉积.pdfVIP

第18卷第10期 光学精密工程 V01．18No．10 andPrecision 2010年10月 optics Engineering oct．2010 文章编号 1004—924X(2010)10一2231一08 电纺直写纳米纤维在图案化基底的定位沉积 李文望1’2，郑高峰1，王翔1，孙道恒1 (1．厦门大学机电工程系，福建厦门36l005；2．厦门理工学院机械工程系，福建厦门361005) 摘要：为进一步提高单根电纺丝纳米纤维的定位沉积和形貌控制水平，基于近场静电纺丝技术，研究了单根直写纳米纤 维在无图案硅基底的沉积行为；仿真分析了图案化硅基底上方的空间电场分布；采用图案化硅基底作为收集板，实验考 察了微图案形状、收集运动速度等因素对单根纳米纤维定位沉积的影响规律。实验结果显示，电纺直写技术具有良好的 定位精度，可将直径为loo～800nm的纳米纤维精确定位于直径仅为1．6“m的圆形微图案阵列上表面；收集板运动速 度较小时，受电场力影响纳米纤维沉积轨迹将朝微图案偏移7“m；收集板运动速