Nafion干燥器的去溶机理和日常维护.pdfVIP

2003年第1期 分 析 仪 器 Nafion干燥器的去溶机理和 日常维护* 汪淑华 郇延富 冯国栋 曹彦波 金钦汉一 (吉林大学化学院，分析科学研究所，长春，130023) 摘 要 介绍了用于原子光谱分析的Nation干燥器的去溶机理、使用条件及 日常维护与清洗。与其他常用去 溶系统或干燥器相比较 ，Nation去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力，日常维护和清 洗简单。该系统不存在记忆效应和峰展宽问题 ，可大大改善原子光谱分析系统的性能。 关键词 Nation干燥器 膜去溶 去溶系统 等离子体 会吸收其他物质。另外，吸收的水分不能从干燥剂 1 引 言 里直接排出，必须通过加热或置换才能使干燥剂再 膜去溶是近年来兴起的一种原子光谱分析用新 生。 型去溶技术。最早的去溶膜是一种硅树脂聚合体， (2)采用透过性干燥剂。这类干燥剂是基于按 用于有机溶剂的去除，效果 良好，对氟立昂、氯仿的 分子大小的选择性透过原理来排除水分的。透过性 去溶效率可达 80％以上 l【，2】。经过改进 以后，也可 干燥剂是一些多微孔材料(如分子筛)。气体样品在 用于除水[3,4j。随着膜技术的不断完善，膜 的种类 一 定的压力下经过微孔材料的表面时，大分子组分 也 日益增多。其 中，以Nation膜 的应用最为广泛， 被留在其中，而小分子组分则穿过多微孔材料而脱 也最具代表性。Nafion干燥器是由多根以Nation 离样品。空气中的氮气、氧气比水分子大，因此可以 膜为材料的管子组成的。 用这种方法干燥空气。这种方法对复杂样品气溶胶 在以等离子体为光源的发射光谱分析中，样品 的去溶效果也不很理想。 一 般都以溶液的形式进行分析。在样品的原子化和 在以等离子体为光源的仪器(如 ICP—MS，ICP 激发过程中，如果样品中含有过多的水分，由于水分 — AES，M盯 一AES)中，将 Nation干燥器置于雾化 的蒸发和样品的原子化等都会消耗大量能量，从而 室与等离子体光源之间，对样品气溶胶的去溶效率 降低光源的激发温度，使激发能力下降，降低方法的 比的水冷凝器高得多，而且不存在记忆效应和峰展 灵敏度。因此，有必要对样品气溶胶进行去溶处理， 宽问题 5。对于 1％(v／v)的硝酸气溶胶的去溶效 以提高仪器(或方法)对待测元素的分析灵敏度。 率可达99．94％[。此外，Nation膜还能起到脉冲 发射光谱仪器通常所用的去溶装置是水冷凝 阻尼器的作用，消除中央通道中由热雾化进样引起 器。水冷凝器的去溶原理十分简单：将气溶胶冷却， 的等离子体脉动现象，降低系统的噪声，提高系统的 直至其中的水分(或其他溶剂)凝结为液体。然后将 分析性能 6。在M盯 一AES仪器中使用 Nation去 聚集的冷凝物排出。但这种方法的去溶效果并不理 想，因为在实际工作中需要