YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响.pdfVIP

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2015-09-11 发布于重庆
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YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响.pdf

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第卷第期强激光与粒子束 , 17 7 Vol.17No.7 年月 , 2005 7 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Jul.2005 文章编号: ( ) 1001-4322 200507-1019-04 YbF 沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响* 3 , 1 2 1 1 1 张耀平 , 许鸿 , 凌宁 , 张云洞 ( 中国科学院光电技术研究所,四川成都 ; 中国科学院研究生院,北京 ) 1. 610209 2. 100039 摘要: 在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上,分析了YbF 沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密 3 度的影响,得出了镀制激光薄膜所需的合适速率。结果表明:薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主, 其缺陷密度随沉积速率的减小基本表现为减小的趋势,当沉积速率约为 / , 沉积速率 YbF ZnS 0.2nm sYbF 3 3 约为 / 时,可得到比较满意的激光薄膜,薄膜表面缺陷密度仅为。 0.4nm s 0.000675 关键词: 激光薄膜; 沉积速率; 缺陷密度; 损伤阈值中图分类号: O484.1 文献标识码: A 目前,高功率激光的应用十分广泛,但由于光学元件的抗激光损伤能力有限,激光对光学元件的破坏是限制激光向高功率、高能量发展的瓶颈,也是影响高功率激光薄膜元件使用寿命的主要原因。因此,研究薄膜激光损伤与抗激光损伤,不断提高其抗激光强度,具有非常重要的意义。光学元件,特别是光学膜层,由于材料本身和镀膜工艺的原因,膜层中存在各种缺陷,缺陷在膜层中以一定的方式和密度分布,这些缺陷往往是导致光 [ ] 学元件损伤的主要原因 1 。已有