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CVD 技术的应用与进展
赵 峰, 杨艳丽
(陕西国防工业职业技术学院, 陕西 西安 710302)
: 简要论述了化学气相沉积( CVD )技术的工作原理, 与其他表面硬化技术相比的特点, 应用领域, 以
及近年来发展的金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD )等离子体化学气相沉积( PCVD)激光化
学气相沉积( LCVD )超高真空化学气相沉积(UHVCVD)和热丝化学气相沉积(HWCVD) 等新 CVD
技术, 展望了该技术的发展趋势和应用前景
: 化学气相沉积; 表面硬化; 应用
: TG 174. 444 : A : 2009) 040007004
App lication and P rogress of CVD T echnology
ZHAO F ng, YANG Y anli
( Shaanx iV ocational and T chn ical Institut, X ian 7 10302 , Shaanx i)
Abs tract: Th follow ing con t nts w r bri fly d scrib d: op rating princip l of ch m ical vapour d position ( CVD )
t chnology, charact ristics of CVD compar d w ith oth r surfac hard n ing t chnologi s, applications of CVD and
r c ntly d v lop d CVD t chnologi s such as CVD of m tallorgan ics (MOCVD ), p lasma CVD ( PCVD ), las r
CVD ( LCVD ), ultrah igh vacuum CVD (UHVCVD) and hotw ir CVD ( HW CVD) . In add ition, th d v lopm nt
tr nd and application of CVD t chnology w r for cast d.
K ey w ord s: ch m ical vapour d position; surfac hard ning; application
[ 2, 3]
, ,
, ,
, CVD ,
[ 1]
,
, 1 CVD
,
1. 1 CVD
CVD ,
CVD
900~ 2 000 CVD(MTCVD)
,
500~ 800 ,
,
: ( 1) ; ( 2)
(MOCVD ),
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