激光刻蚀ITO薄膜工艺的研究.pdfVIP

激光刻蚀lT0薄膜工艺研究 陈记寿1，徐爱忠2，刘丹‘ (I．中国建筑材料科学研究总院 北京市 100024： 2．武汉楚天工业激光设备有限公司 武汉市430074) 摘要：鉴于铟锡氧化物(1adiuIIrtinOXide。ITO)薄膜电加温玻璃在外观、力学，光学性能的特殊要求， 激光刻蚀技术能否成功应用于该领域成为探讨的问题．本文通过激光器在不同工作功率和刻蚀速度下刻蚀 ITO薄膜所达到的刻蚀效果开展研究，探索激光刻蚀工艺，并通过测试比对刻蚀前后玻璃的力学、光学特性变 化，分析激光刻蚀对玻璃的影响。实验结果表明：选用ITO薄膜厚度650nm镀膜玻璃做为实验样件，选用波 长1064纳米的激光器做为实验设备，当激光器工作功率为750mW，刻蚀速度为500mm／s时，薄膜被完全刻蚀， 且衬底玻璃未受到损伤；经检测，刻蚀后玻璃的抗弯曲强度仅衰减7％，抗冲击强度和透光度均无变化．因此 激光刻蚀技术可实际应用于电加温玻璃的薄膜刻蚀． 关键词：激光刻蚀；ITO；薄膜；电加温玻璃 ProcessResearchofLaser withITOFilm Etching dan ai Liu shou,Xu Chenji zhong Abstract：Becauseofthe indium-tinoxidefilmelectrical in of glass specialrequirements heating appearance， shoulddiscussiflaser callbe inthisfield． applied mechanics，opticalproperties，we etchingtechniquesuccessfully Basedondifferent filmsto the laser atworkanddifferent ITO research，we’11 power etchingspeeds explore and effectof differencestestthe before etchingprocess，andanalysis through glass’Soptical，mechanicalproperties thicknesscoatedas afterlaser resultsshowthat：choose650nmITOfilm glassexperimental etching．Experimental 064nano laseras laser at rateat samples，1 device，when power wavelengthexperimental working 750mW,etching is etchedand not