用模拟退火法确定MgF2薄膜折射率和厚度.pdfVIP

第21卷第4期 光学精密工程 V01．21NO．4 andPrecision 2013年4月 CIptics Engineering ADr．2013 文章编号 1004—924X(2013)04—0858—06 用模拟退火法确定MgF2薄膜折射率和厚度 郭 春1’2，李斌成H (1．中国科学院光电技术研究所，四川成都610209；2．中国科学院大学，北京100049) 摘要：研究了确定单层MgF：薄膜的物理厚度及其在深紫外／真空紫外波段折射率的方法。首先，利用钼舟热蒸发工艺 在B270基底上制备了单层MgF：薄膜。然后，依据MgFz单层膜在不同入射角下的反射光谱，采用模拟退火方法确定 了MgF。薄膜在170～260nrn波段的折射率和物理厚度，并与由椭圆偏振法确定的薄膜参数进行了比较。实验显示，采 用模拟退火和椭圆偏振两种方法确定的MgF。薄膜厚度分别为248．5nm和249．5nm，偏差为0．4％；而用上述两种方 法在240～260nm波段确定的单层MgF。薄膜的折射率偏差均小于0．003。得到的结果证实了依据不同入射角下的反 射光谱，用模拟退火方法确定MgF：薄膜厚度和折射率的可靠性。 关键词：薄膜参数测量；折射率测量；膜厚测量；模拟退火算法；MgF： 中图分类号：0484．5文献标识码：A doi：10．3788／OPE0858 Determinationofrefractiveindexandthicknessof film simulated MgF2 using annealingalgorithm GUOChunl～．LI Bin—chen91。 Institute andElectronics，Chinese 610209，China； ofOptics AcademyofSciences，Chengdu Chinese 100049，China) 2．Universityof AcademyofSciences，Beijing *Co author，E-mail：bcli@ioe．ac．cn r7rPs户。门di押g on Abstract：Thisfocusedthemethodtodeterminethe thicknessofa paper physical single—layerMgF2 filmanditsrefractiveindexinthe ultraviolet ultraviolet／vacuum deep spectralranges．Thesingle—lay— film boat thebasisof er was ontheB270substratea Mo method．On MgF2 prepared by evaporation reflectanceofthe filmatvariousincidence refra