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直接热氧化制备氧化钛薄膜电极的研究Ⅰ. 制备、结构和电化学性质.pdf
第 期 冷文华等:直接热氧化制备氧化钛薄膜电极的研究
6 !
1003 - 7713/ 2001/ 06 - 0705 - 6
直接热氧化制备氧化钛薄膜电极的研究!
!! 制备、结构和电化学性质
!!
冷文华 , 张 昭, 成少安, 张鉴清, 曹楚南
(浙江大学玉泉校区化学系,杭州 310027 )
摘 要: 采用原子力显微镜、 光衍射仪、电化学阻抗谱等手段对热氧化制备氧化钛膜的结构和
X
电化学性质进行了研究。结果表明,金属钛直接热氧化制备的薄膜为金红石型二氧化钛薄膜;随氧
化温度升高和时间延长,薄膜结晶度逐渐增大;随氧化温度升高,二氧化钛平带电位向负方向移动;
当温度大于600C后,二氧化钛结晶致密,电子导电性减小。
关键词: 氧化钛;热氧化;电化学阻抗
中图分类号: 文献标识码:
O641 A
引 言
近年来,半导体尤其是二氧化钛由于在光电转换、腐蚀、纳米加工和光催化降解污染物等
[]
领域显示了广泛的应用前景,因而得到普遍研究1 。对光电转换和光电催化而言, 因其
TiO2
[] []
2 3
高稳定性和良好的光催化活性被认为是目前较好的催化剂。采用溶胶 凝胶 、气相沉积 、
-
[] [] []
4 5 6
阳极氧化 、电泳 等制备TiO2 的方法研究较多,而对直接热氧化制备研究很少 。Hartig 等
研究了用钛热氧化、阳极氧化及其氧化后氢还原处理、气相沉淀制备氧化膜的电化学和光电化
[]
7
学性质 ,发现直接热氧化法能得到最佳的光阳极和最高的光电转换效率,但未研究氧化膜的
阻抗性质和光电催化性能。Camara 等中运用电化学阻抗谱技术研究了钛金属在400 C 氧化较
[]
6
短时间(小于45 min )氧化钛膜的电化学和电性质 ,但未研究它们的光电和光电催化性能。
深入掌握半导体和半导体/ 电解质界面性质对于半导体的制备、光电转换和光电催化降解
污染物等领域具有重要的理论意义和应用价值。电化学方法尤其是电化学阻抗谱,因其灵敏
度高、小幅电信号扰动、测量频率宽等优点,而能获得更准确更多的电极界面信息,成为国际上
[,]
电化学研究中的一种十分有用的手段8 9 。本文采用多种表征手段并结合电化学阻抗谱对在
不同温度和时间下,直接热氧化制备钛氧化膜的结构、电化学性质及其相互关系进行了研究。
# 研究方法
# . 氧化钛膜的制备及表征
工业纯钛片 (厚度 ,含量不小于 ),切割成 (样品 )和
TA1 0 . 15 cm
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