直流磁控溅射法制备铝铬共掺杂氧化锌薄膜及其结构和光电性能的研究.pdfVIP

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2015-09-17 发布于湖北
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直流磁控溅射法制备铝铬共掺杂氧化锌薄膜及其结构和光电性能的研究.pdf

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直流磁控溅射法制备铝铬共掺杂氧化锌薄膜及其结构和光电性能的研究.pdf

第39卷第6期人工晶体学报v。1．39N。．6 OFSYNTHETICCRYSTALS December，2010 2010年12月 JOURNAL 直流磁控溅射法制备铝铬共掺杂氧化锌薄膜及其结构和光电性能的研究周爱萍，刘汉法，张化福 (山东理工大学理学院，淄博255049) 摘要：利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌(ZACO)透明导电薄膜。通过x射线衍射 (XRD)和扫描电镜(SEM)等表征方法对薄膜特性进行测试分析，研究了溅射压强和溅射功率对薄膜生长速率以及光电特性的影响。结果表明，随着溅射气压(1．5—4．5Pa)的增大，薄膜沿c轴方向的结晶质量提高，薄膜表面更加致密，晶粒大小更加均匀。薄膜生长率随压强的增大而减小，但电阻率先减小后增大。当溅射功率由80w增大到 100 W时，薄膜的生长速率增大，电阻率减小。溅射压强为3．5Pa，溅射功率为100W时，薄膜的电阻率达到最小值2．574×10。Q·cm。紫外-可见透射光谱表明，所有薄膜在可见光区的透过率均超过89．9％。关键词：ZACO薄膜；溅射压强；溅射功率；透明导电薄膜中图分类号：0484．4 文献标识码：A ofAI—Cr Structure，PhotoelectricalPropertiesCo-doped ThinFilms DC ZnO Preparedby MagnetronSputtering ZHOU Ai-ping，LIUHan扣，ZHANG舭乒 of of (SchoolScience，ShandongUniversityTechnology，Zibo255049。China) 5 15 (ReceivedAugust2010，accepted s印把，r加2010) zinc were direct conductiveAI—Cr films codopedoxide(ZACO)thin by Abstract：Transparent prepared current on substrates．TheofthefilmswerecharacterizedXRDand magnetronsputteringglass properties by SEM．Theeffectsof and onthe rateandthe pressuresputteringpower growth photoelectric sputtering ofthinfilmswerediscussedindetail．Theresultsshowthatthe theC- properties crystallinequalityalong axi