α-CxNyH1-x-y薄膜的制备和光学性能分析.pdfVIP

第44卷第12期 原子能科学技术 V01．44。No．12 2010年12月 Atomic Scienceand Dec．2010 Energy Technology 仅一Cx Ny：H。一x—y薄膜的制备和光学性能分析 李建根1’2，吴卫东1’2，马婷婷1’2 (1．西南科技大学理学院。四川绵阳621010， 2．中国工程物理研究院激光聚变研究中心．四川绵阳621900) 摘要：采用外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法．以高纯CH．／Nz／Hz作为反应气体．制备非晶 a-C，N，：H-…，薄膜。研究了薄膜沉积速率和入射功率之间的关系。随着功率增大，薄膜沉积速率先增 大后减小lSEM图像表明薄膜无层状、柱状结构lAFM图像表明薄膜粗糙度在0．2～0．3nm之间；傅里 叶红外光谱(FTIR)显示了薄膜的成键情况；紫外一可见一近