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高温烧结和等离子轰击改善碳纳米管薄膜的场发射性能
第42卷第4期 西 安 交通大学 学报 Vok42№4
X17AN UNIVERSITY
2008年4月 JOURNALOF JIAOTONG Apr．2008
古：日
同，皿烧结和等离子轰击改善碳纳米管
薄膜的场发射性能
商世广，朱长纯，李听
(西安交通大学电子与信息工程学院，710049，西安)
摘要：针对丝网印刷碳纳米管(CNTs)薄膜阴极场发射能力差和寿命短等问题，提出了一种能有
效改善其场发射性能的高温烧结和等离子轰击后处理方法．同其他方法相比，该方法避免了直接接
触对CNTs膜体造成的机械损伤，能彻底清除CNTs薄膜表面的有机粘舍剂，增强CNTs薄膜与
衬底的接触，并且烧毁超长的CNTs尖端．场发射特性测试表明，经该方法处理的CNTs薄膜的开
启场强为2．6Wvm，电流密度在场强为9．0
示，该方法处理的CNTs薄膜阴极经点亮200min后电流密度基本没有衰减，波动也较小．该方法
为改善丝网印刷CNTs薄膜阴极的场发射性能提供了一种可行的方案．
关键词：碳纳米管薄膜；场发射；丝网印刷
中图分类号：TN27；0484文献标志码：A文章编号：0253—987X(2008)04叼466一05
Field ofCarbon Film
Emission Nanotubes
Improving Properties by
andPlasma
High-TemperatureSintering Bombarding
SHANG Xin
Shiguang，ZHUChangchun，LI
(SchoolofElectronicsandInforrnation 710049，China)
Engineefing，Xi’allJiaotongUniversity，Xi’an
solvethe offieldemission andshortlifetimeof
Abstract：Toproblems capability screen-printing
film
carbonnanotube(CNT)thincathode，anovel with sinte—
post-treatmenthigh-temperature
and is with treatmentcan
bombarding existingmethods，the
ring plasma presented．Compared
cleanthe bondsonCNTthinfilmsurface thecontactbetweenCNTs
organic perlectly，improve
and the mechanie
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