室温电化学法制备白钨矿SrWO4晶态膜的生长特性研究.pdfVIP

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第36卷第5期 人 工 晶 体 学 报 v01.36N。.5 1坚堡!!旦 !!!型些窒!坠些望!堡坚塑兰望 堡堡竺;!墼 GrowthCharacteristicofScheeHte Film SrW04 Electrochemical byUsing TechIlique atR00m Temperature Pi,191,删zM-q缸昭1, 肌f舶7妒m1,翰们屁.n缸一”.肌40删肾g眦一,yU cHEN Hl毋 bn孔.p《.HUANG列.WANG M蛐幽bsei棚∞舯d (1.cou8萨of 6l(M脚,chi皿) c:№o0f副ucati叽.cII蚰列u610041,ch_岫;3.ce岫0fA“y∞蚰d1缸,‰h哪u面”rBi睁,cIlen刚u (皿“州16且H2007) Abs蛔ct:Stmn6um wem onme诅I 8ub8Ir】虬郫atro哪 hmgstate(Srwq)6lm8prepareddirecⅡy tu。lgBten 0ffllm in埘jr{enttime缸脚dle totlleteminaI const8Ilt 8tage 8tage growt}Ibyu8i“g temⅣ栅曲fe e8dy cumntelec眦henlical nleSEM through tecllIlique.11le缈wthproce船0fsrW吐丘lIll8w聃inve8ngated andEDxmea哪唧朗t.Itw船foundthattlle and ofthe crystallim叫cleusgranulessrWq矗l吣ch∞∞ theddbct t0 tIle posino啊∞tlle earlystageoft|坨6lln掣州油,a substrat曲p^orf0珊蛐d掣ow;at 0f aIli仰c∞rdin鲥on f0皿the∞heehte qll雠6tyw04 polyhedIadeposh∞tIIe蚰bsⅡ砒e蛐d f商弛work, thenthesr2+i唧6U inthe nucleu8卸d witlltlIe in山e丘卸埘帅^弛删d矗“g crystauine g聊ll】es;alo“g of

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