Al3+掺杂对Li2FeSiO4结构和电化学性能影响的研究.pdf

No．8 第27卷第8期 无 机 化 学 学 报 V01．27 20l CHINESE INORGANICCHEMI卿Y 1497一1502 1年8月 JOURNAI。0F Al惨杂对L订eSi04结构和电化学性能影响的研究 兰建云1赵敏寿★∞王艳芝l乔玉卿1 (1燕山大学环境与化学工程学院，秦皇岛066004) (2燕山大学亚稳态材料制备技术与科学国家重点实验室，秦皇岛0660呻 h，所得试样 学性能进行了测试。结果表明：眈瞳锂：乃拧·麓=4：1、掺m噌为3％，80℃回流24h，350℃恒温煅烧5h，700℃恒温13 颗粒集中分布在150nm左右且未出现团聚。在O．1C(16mA·g-1)、O．2C、0．5C下的首次放电比容量为127ⅡAh·g．1、103．6m从·旷1 和9l mAh．rt，15次循环后无明显衰减，具有很好的循环稳定性。 关键词：正极材料；Li2FeSi04；A13+掺杂；磁性测定；粒度分布 文献标识码：A 中图分类号：0614．111；0614．8l+l；0613．72；TM912．9 Perfomanceof E仃ectofAP onStructureandElectrocheIlli∞l Li攫eSi04 Doping LANJiaJl一YunlzHAOMin—Shou+1’2WANGY肌-Zhil QIAOYu—Qin91 066004锄删 (1cD如萨矿跏洳n胱，站以饥dckm幻以E，画加e矗够y册s地n‰西e瑙咖Q触M凡咖，肌如i Sc泌nce锄d es弛eKeyL曲or咖叮《Metns“曲k Tech∞lo酊，Q鳓姒髓t咖o，HebeiQ66004，Ch岫 as 8H20卸dC8H∞04Si Abst翰ct：Adopting staning raw material assisted materi吐Li2Fel。A蛤iO托0=0．00，O．01，0．03，0．05)electrodew嬲preparedbyhydmthe珊al solid．statereaction．Thestmctm．eoftllematerialw鹪studied methodand byIR，XRD， s01．gel two—stepheating EDS．ne oftllematerialw鹤tested FE—SEM粕d pe怕瑚ance by quantum