ZrO2纳米粉等离子喷涂层制备研究.pdf

第25卷第1期 材 料 热 处 理 学 报 v。1．25 N。．1 OFMATERIALSANDHEATTREATMENT 2004 2004年 2月TRANSACTIONS February Zr02纳米粉等离子喷涂层制备研究 税 毅， 张鹏程， 蒋 驰， 王术刚， 肖云峰 (中国工程物理研究院， 四川 绵阳621900) 摘要：经二次造粒的纳米z咄为喂料制备了等离子喷涂层。x衍射物相分析、SEM形貌观察表明，涂层主要以 四方相和立方相构成，含有少量的单斜相；在喷涂过程中粉末熔化状况良好，涂层含有网状微裂纹。用金相法测定了 涂层孔隙率，与普通Zr02等离子喷涂层相比，涂层致密度显著提高。在模拟熔炼条件下，对涂层进行了真空热震试 验，涂层均能经受一次真空热震而涂层完好。单斜相含量较低、具有一定孔隙率和均匀网状微裂纹的涂层，经二次真 空热震后，涂层仍处于完好状态。 等离子喷涂； 组织与性能 关键词：Zr02纳米粉； 中图分类号：TGl74．442文献标识码：A 文章编号：1009．6264(2004)01．0015．05 钇稳ZrO：是具有诸多优点的陶瓷材料，诸如高 研究了ZrO：涂层微结构、组成与性能的关系。Ahmet 熔点(2677oC)、较低的热传导率(1．4W·m一·K一)、较 高的陶瓷韧性(7．1MN／m3彪)、良好的耐蚀性，因此成 积涂层的形成及形貌的影响，研究了不同工艺参数条 为热障涂层的首选材料。据国内外文献报道，制备 件下沉积效率、表面粗糙度、平均厚度及涂层表面形 ZrO：涂层的主要方法有：(1)热喷涂法¨q1，包括等离 程中的柱状晶生长过程。由于晶界方向与热流方向 子喷涂、HVOF喷涂、真空等离子喷涂；(2)s01．gel法； (3)反应磁控溅射沉积(RSD)H1；(4)先驱体等离子喷 一致，垂直于基材，熔滴与基材良好的接触以及界面 涂法b1；(5)电子束物理气相沉积(EB—PVD)M1。Zr02 温差较大，导致沿凝滴厚度方向狭窄柱状晶的生长。 等离子喷涂层组织为层状结构，由熔滴撞击基材平化 对于用纳米Zr02作为喂料制备等离子喷涂层， 堆叠而成，EB．PVD制备的涂层是从基材逐渐生长的目前国内外仍处于初始阶段。H．Chen等u21用纳米 柱状晶结构，RSD涂层是由等轴晶呈簇状构成。目前 ZrO：组装的喂料制备了等离子喷涂层，但对工艺参 研究较成熟的是等离子喷涂。国内外从涂层结构设 数对涂层组织及物相的影响涉及较少，对涂层的抗热 计、加入稳定剂(M90、Y203、CaO、Ce02)的稳定机 震性未作测定。 理H1及稳定效果、工艺参数选取及对涂层组织、晶粒 本文用ZrO：纳米结构喂料制备了等离子喷涂 生长及形态、相结构、抗热震性能、热震失效机制等方 层，研究了功率、粒度、氧化钇含量等工艺参数条件下 面进行了深入详细的研究。Jan．I]avsky等H1研究了等涂层的微观组织、孔隙率、相组成及抗热震性能。 离子喷涂ZrO：涂层在退火处理过程中的相组成及其 变化，用中子衍射方法测定涂层中的单斜相、四方相 1 试验材料及方法 和立方相含量，结果表明随退火温度升高，单斜相略 1．1喷涂材料 有增加，四方相含量减少，立方相略有增加。在 喷涂材料选用由纳米ZrO：组装的喂料，稳定剂 14000C退火处理，四方相减少较多，立方相含量增加， 说明在