Al含量对真空电弧沉积ZrAlN薄膜性能的影响.pdf

第 40卷 　第 3期 材 料 保 护 Vol. 40　No. 3 2007年 3月 M a ter ia ls Protection M ar. 2007 试验研究 A l含量对真空电弧沉积 ZrA lN薄膜性能的影响 1 2 2 秦聪祥 , 胡社军 , 汝 　强 ( 1. 山东理工大学机械工程学院 , 山东 　淄博 　255049; 2. 华南师范大学物理与电信工程学院 , 广东 　广州 　51063 1) ( ) [摘 　要 ] 　利用等离子体辅助电弧沉积技术在高速钢片和单晶硅片 P 100 上沉积 ZrA lN 多元薄膜 ,利 用扫描电镜 、能谱分析 、X射线衍射对薄膜进行了结构和形貌表征 ,利用显微硬度计 、摩擦磨损试验仪对薄膜 的性能进行了检测 ,并研究了铝含量对薄膜组织结构 、形貌 、显微硬度及耐磨性能等的影响 。结果表明: ZrA lN ( ) ( ) 多元薄膜有 111 面的择优取向 ,随 A l含量的增加 , 111 衍射峰的位置向小角度偏移 , 当 A l原子分数大于 3%时 ,薄膜中出现 A lN 相 ;随着 A l含量的增加 ,薄膜的硬度和耐磨损性能先增加后降低 ,在 A l原子分数为 μ 3%时 ,获最高硬度 1 570 HV0. 5 N 和最小磨痕宽度 93 m ,这是薄膜中 A l含量不同引起晶体结构变化造成的。 [关键词 ] 　ZrA lN 涂层 ; 离子束辅助沉积 ; 电弧离子镀 ; 高速钢片 ; 单晶硅片 ; 性能 [中图分类号 ] TG174. 444　 [文献标识码 ] A 　 [文章编号 ] 100 1 - 1560 (2007) 03 - 000 1 - 03 0　前 　言 同成分的 ZrA lN 涂层 ,研究 A l含量对涂层性能的影响 。 近年来表面薄膜技术在改善材料的使用寿命方面 1 试 　验 正扮演着越来越重要的角色 。通过选择恰当的薄膜材 1. 1　试验设备与材料 料和制备工艺 ,可以有效地延长基体材料的使用寿命 , 试验试样采用单晶硅片 P ( 100) ,W 18Cr4V 高速钢 提高产品的商业价值 。 (常规淬火回火 , 62 HRC,切成 25 mm ×18 mm ×2 mm 过渡金属氮化物和碳氮化物系列镀膜如 TiN 、TiCN ) ( ) 块状 和不锈钢片 1Cr18N i9 ,经研磨抛光成镜面 。阴 以及其他的延伸镀膜如 TiN /A lN 多层镀膜或 TiA lN 混 极靶材为纯 A l靶和纯 Zr