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新型环保抛光液的制备及其对软脆碲锌镉晶片的化学机械抛光.pdf
25 22 2014 11
,,116024
:“- - ”,
“- ”。 :3000
,17 kPa,80 r/min,5 min。
, H。 :p
,,28 kPa,60 r/min,30 min。
,,、、
0.568 nm、0.724 nm、6.061 nm。
:;;;
:TH117 DOI:10 .3969/ .issn.1004- 132X.2014 .22 .005
j
-
-
Zhang Zhenyu Song Yaxing Xu Chaoge
Key Laboratory for Precision and Non-traditional Machining Technology of
Ministry of Education,Dalian University of Technology,Dalian,Liaoning,116024
:A strategy consisting of fixed-abrasivelapping andadevelopedenvironment-friendly so‐
lution was roposedfor olishing cadmium zinctelluride(CdZn Teor CZT).Thiswasto eliminatethep p
disadvantages for conventional machining methodincludingfreeabrasivelapping, olishing andchemp ‐
ical mechanical olishing onCZT wafers.Waterproof aper of aluminawith mesh sizeof 3000 wasemp p ‐
ployed as fixed-abrasive lapping ad.Lapping experiments wereconducted at a ressure of 17 kPa onp p
CZT wafers.The rotationspeedsfor olishing lateand adwereas80 r/minrespectively,andthedup p p ‐
ration was as 5 min during lapping experiments.The developed environment-friendly solution consis‐
ted of eroxide,silica,and natural orange uice that was usedfor H modulator.Chemical mechanicalp j p
polishing wascarriedout at a ressureof 28 kPa,rotation speedsof 60 r/minfor bothof olishing adp p p
and late,andadurationof 30 min.Theexperimentalresultsshow that ultra-smooth olishedsurfacesp p
areachieved,where surface roughness ,root mean square(rms),and eak-to-valley(PV) values arep
as 0.568 nm,0.724 nm,and 6.061 nm,respectively.
:CdZnTe;fixed abrasive; reen and environment-friendly solution;chemical mechanicalg
polishing
0 。 CZT
1- ,2.3 ,
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