新型环保抛光液的制备及其对软脆碲锌镉晶片的化学机械抛光.pdfVIP

新型环保抛光液的制备及其对软脆碲锌镉晶片的化学机械抛光.pdf

  1. 1、本文档共5页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
新型环保抛光液的制备及其对软脆碲锌镉晶片的化学机械抛光.pdf

25 22 2014 11 ,,116024 :“- - ”, “- ”。 :3000 ,17 kPa,80 r/min,5 min。 , H。 :p ,,28 kPa,60 r/min,30 min。 ,,、、 0.568 nm、0.724 nm、6.061 nm。 :;;; :TH117 DOI:10 .3969/ .issn.1004- 132X.2014 .22 .005 j - - Zhang Zhenyu Song Yaxing Xu Chaoge Key Laboratory for Precision and Non-traditional Machining Technology of Ministry of Education,Dalian University of Technology,Dalian,Liaoning,116024 :A strategy consisting of fixed-abrasivelapping andadevelopedenvironment-friendly so‐ lution was roposedfor olishing cadmium zinctelluride(CdZn Teor CZT).Thiswasto eliminatethep p disadvantages for conventional machining methodincludingfreeabrasivelapping, olishing andchemp ‐ ical mechanical olishing onCZT wafers.Waterproof aper of aluminawith mesh sizeof 3000 wasemp p ‐ ployed as fixed-abrasive lapping ad.Lapping experiments wereconducted at a ressure of 17 kPa onp p CZT wafers.The rotationspeedsfor olishing lateand adwereas80 r/minrespectively,andthedup p p ‐ ration was as 5 min during lapping experiments.The developed environment-friendly solution consis‐ ted of eroxide,silica,and natural orange uice that was usedfor H modulator.Chemical mechanicalp j p polishing wascarriedout at a ressureof 28 kPa,rotation speedsof 60 r/minfor bothof olishing adp p p and late,andadurationof 30 min.Theexperimentalresultsshow that ultra-smooth olishedsurfacesp p areachieved,where surface roughness ,root mean square(rms),and eak-to-valley(PV) values arep as 0.568 nm,0.724 nm,and 6.061 nm,respectively. :CdZnTe;fixed abrasive; reen and environment-friendly solution;chemical mechanicalg polishing 0 。 CZT 1- ,2.3 ,

您可能关注的文档

文档评论(0)

文档精品 + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

版权声明书
用户编号:6203200221000001

1亿VIP精品文档

相关文档