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Cu薄膜的瞬态反射率及退火处理的影响.pdf
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I第33卷2
一V01.33第№ . [
L 一期2— ■●■●■■
JOURNAL
OFJIANG5LUNl、‘ERSil’Y’INaturalsclcncc
Edmon)
doi:10.3969/j.issn.1671—7775.2012.02.017
Cu薄膜的瞬态反射率及退火处理的影响
任乃飞,王荣校,顾佳方,陈秋月
(江苏大学机械工程学院,江苏镇江212013)
摘要:为了研究激光辐照金属薄膜后的超快热化动力学过程,利用磁控溅射技术在玻璃衬底上制
备了Cu薄膜样品,同时取部分样品进行不同温度的退火处理.运用飞秒激光泵浦一探测技术观测
了薄膜表面的反射率变化,研究了薄膜退火处理对反射率的影响.结果表明:飞秒激光作用下,Cu
薄膜的瞬态反射率曲线分为稳定、快速上升、衰减和恢复4个阶段;退火处理对反射率曲线的峰值
和衰减阶段的时间有影响,退火温度越高,反射率变化的峰值越小,衰减阶段所用的时间越长,即电
子的冷却速率越慢;基于双温模型预测的电子温度与试验结果大致吻合,但是预测的电子冷却时间
比试验要长.
关键词:Cu薄膜;瞬态反射率;泵浦一探测;飞秒激光;双温模型
文献标志码:A
中图分类号:0484;TN247
Transient ofCufilmsandinfluenceof
reflectivity annealing
Ren
Naifei,WangRongxiao,GuJiafang,ChenQiuyue
Mechanical
of
(School Engineering,JiangsuUniversity,Zhenjiang,Ji∞轳u212013,China)
orderto uhrafastthermalizationof laserirradiated
Abstract:Instudy dynamicsshort·pulsed metal,Cu
atdif-
filmswere on substrates some wereannealed
slags magnetron
deposited by sputtering,andsamples
ferent transient offilmswagdetectedfemtoseeondlaser
temperatures.Therefleetivity by pump—probe,
on thetran·
andtheinfluenceof transient Wagalsodiscussed.Theresultsshowthat
annealing refleetivity
sient curveofCufilmscanbedividedintofour
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