本底真空度对非平衡磁控溅射CCr复合镀层性能的影响.pdfVIP

1750 助 能 材 料 本底真空度对非平衡磁控溅射C／Cr复合镀层性能的影响’ 郭巧琴1’2，李建平1，蒋百灵2，李洪涛2 (1．西安工业大学材料与化工学院，陕西西安710032； 2．西安理工大学材料科学与工程学院，陕西西安710048) 摘要： 采用非平衡磁控溅射在GW93镁合金表面 2材料及试验方法 制备了镀C／Cr复合镀层，分析了不同本底真空度下 在GW93镁合金表面进行非平衡磁控溅射镀C／Cr复 试验选用GW93镁合金，其化学成分(质量分数) 9％，Y3．o％，Zn 合镀层的硬度、耐蚀性、膜基结合力，摩擦系数等。结 为Gd 0．42％，余量为Mg，试样规格 30minx 果表明，非平衡磁控溅射镀C／Cr复合膜层，本底真空 为30mmX 5mm。 度在8．8×10_3～1．0×10_1Pa范围内，镀层硬度与本采用英国Teer公司制造的闭合场非平衡磁控溅 底真空度成反比，当其为8．8×10_3Pa时，镀层硬度最 低为1397Hvo朋，镀层使基体自腐蚀电位提高到备真空室内径D为425mm，试验中采用2个铬靶和2 --0．940V，显著改善镁合金的耐蚀性，结合力最高可个石墨靶的4靶配置，铬靶用于离子轰击清洗和过渡 达8．11N，镀层的摩擦系数最低达到0．05。本底真空层制备以及往过渡层上引入合金元素Cr。 度对C／Cr复合镀层相组成没有显著影响，不同真空 镀前将试样进行预磨、抛光处理，然后用乙醇和丙 度下的C／Cr复合镀层均以非晶为主。 酮超声波清洗10min，经冷风吹干后放人真空室。分 关键词：C／Cr复合镀层；硬度；耐蚀性；结合力；摩擦 系数 ×10～、1．0×10_1Pa时进行镀膜处理。 中图分类号：TB43 文献标识码：A 文章编号：1001-9731(2009)10—1750-04 1 引 言 各种机电产品的过早失效中约有70％是由磨损 和腐蚀造成的，而这两种失效方式的发生都与材料的 表面状态(物理、化学和应力状态等)密切相关，因此提 高这类材料使用性能的关键是提高其表面性能Cl,g]。 镀层技术可有效且经济地改变零件表面功能，防止因 磨损、腐蚀或氧化引起的失效，延长零件使用寿命，其 中在固体表面上制作异质镀层是改善固体材料的摩擦 磨损性能的一种经济且有效的办法，可以通过以下两 图l UDP450设备原理图 1SchematicoftheUDP450 种途径实现嘲：(1)提高表面硬度以提高材料的耐磨 Fig diagram system 性f(2)减小摩擦系数使材料具有减摩性。由于一般镀 层很难同时具有高硬度与低摩擦系数，而非平衡磁控 量法。测试载荷为259，保压时间15s，进行测量镀膜 溅射类石墨镀层因同时具有以上两个优点，因此成为 层硬度。本次实验在每一个硅基体上取3个点测其硬 了一种新型的倍受关注的耐磨减摩镀层‘钉。但是，非 度，Cr／C镀层试样上取3个点测其硬度，取3个点的 平衡磁控溅射技术对于设备本底真空度要求较高，要 平均值。 达到高真空用时长，耗电量大，要求，目前研究者较 电化学分析采用LK98C型电化学工作站，进行交 少啪。本文主要研究真空度对磁控溅射c／cr复合镀 流阻抗测量(EIs)、塔菲尔曲线测量以及相关的数据处 层性能的影响，因此，能否降低本底真空度而又能达到 理。在电化学池中采用三电极体系，将基体试样和经 性能从而为其广泛制备与使用提供理论基础与实践经 过微弧氧化处理的试样