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《Temperature+Control+System+with+Multiclosed+Loops+for+Lithography+Projection+Lens》.pdf

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《Temperature+Control+System+with+Multiclosed+Loops+for+Lithography+Projection+Lens》.pdf

CHINESEJOURNALOFMECHANICALENGINEERING ·207· V01.22,No.2,2009 at online IX)I:10.3901/CJME.2009.02.207,availablewww.ejmeneLeom;WWW.cjmenet.eOlnCll Control withMulti-dosed TemperatureSystem Loops for Lens LithographyProjedion ME HEyan2 Hongfeil,LI Xiaopin91一,and 1 State KeyLaboratoryManufacturingEquipment&Technology,HuazhongUniversity.. ofDigital and 。 Technology,Wuhan430074,China ofScience 2Tianhua Normal 201815,Chhta College,ShanghaiUniversity,Shanghai Received May27,2008;revisedJanuary8,2009;acceptedJanuary22,2009;publishedelectronicallyFebruary6,2009 isOneofthemost of toolandisaffected Abstract:Imagequality importantspecificationsopticalfithography notablybytemperature, tointroduce vibration.andcontaminationof methodoflocal conffoliseasier vibrationand projectionlens(PL).Tradifionaltemperature withmulti-closedis tocontrolthe insidethe to contaminatioil。socontrol developed temperaturePL,and temperamresystem loops ilew

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