硫化物晶膜的溶剂热生长与性质及研究.pdf

硫化物晶膜的溶剂热生长与性质研究 中文摘要 中文摘要 溶剂热法现被广泛地应用于科学研究和工业生产。到目前为止，用溶剂热法 合成出来了大量的无机及无机一有机杂化材料，也引起了人们越来越多的关注。但 是，据我们所知，利用溶剂热法在反应性基片(金属基片)上制备无机微米(纳米) 晶薄膜是最近发展起来的一种制备薄膜的新方法。本论文工作利用溶剂热法来制 和Ni．TCNQ四种微米(纳米)晶薄膜。主要包括以下内容： 一、首先简述了薄膜材料及其制备方法。然后介绍了溶剂热法在金属基片上 制各薄膜材料研究进展，重点总结了其他人利用溶剂热法在金属Zn、Cu、Ag、Fe、 Ni、Sn、Pb、Ti等基片上制备的薄膜材料。最后简要叙述了表面活性剂和表面活 性剂在纳米材料制各中的作用。 二、在溶剂热条件下，将铜片、硫粉、及乙二胺直接反应，并在反应体系中 加入表面活性剂CTAB，最终在铜片表面生成了六边形的Cu2S微晶薄膜。薄膜经 中起了重要作用。在加CTAB的条件下，反应时间大大地缩短了，并且得到的Cu2S 薄膜具有规则且整齐的结构。用溶剂热法在铜基片上制各Cu2S薄膜的最大的优点 是该方法操作简单、方便。 三、利用溶剂热反应，在不加入或加入表面活性剂的情况下，将铜基片分别 放在Se／水合肼，Se／乙二胺，Se／氨水体系中反应，最终成功地在铜片表面生成了 的薄膜由六边形的微米晶组成。当CTAB加入到反应体系中，得到的薄膜由树叶 状的微米晶组成。而在乙二胺体系中，树叶状的微米晶变成起皱卷曲的形状。 四、利用溶剂热反应，在反应体系中不加入或加入表面活性剂的情况下，将 镍基片分别放在S／水合肼，S／NaCl溶液，s／TX，s／乙二胺，S／--乙烯三胺体系中 反应，最终成功地在镍片表面生成了规则形状的Ni3s2薄膜。在不同反应条件下生 成的薄膜经XRD表征，均为Ni3S2相。实验发现得到的Ni3S2薄膜的微晶形状可以 通过改变反应参数来改变。 五、在溶剂热条件下，以乙腈做溶剂，使镍基片与TCNQ反应，最终在镍基 硫化物晶膜的溶剂热生长与性质研究 中文摘要 片上制备出棒状和小球状的Ni。TCNQ薄膜。通过实验发现，Ni．TCNQ薄膜的微 晶形态可以通过改变许多反应条件来改变，如改变溶剂，改变反应时间等等。在 不同反应条件下生成的薄膜经XRD表征，均为相同的Ni-TCNQ相。 关键词：溶剂热法生长、金属基片、硫化物薄膜、光学性质 作 者：林飞 指导教师： 戴洁(教授) II 硫化物晶膜的溶剂热生长与性质研究 英文摘要 Solvothermaland of growthpropertiescrystalline filmsofmetalsulfidesUIll Abstract Solvothermal been usedinscientificfieldsandindustrial synthesis，has widely to numberof and now，alarge inorganicinorganic—organichybrid productions．Up materialshavebeen thiseffective anditwillattract preparedby