电刷镀法制备大面积241+Am+放射源.pdfVIP

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2015-10-08 发布于湖北
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第卷第期核化学与放射化学　 37 3 　　　　　　　 Vol.37 No.3 年月 Journal　of　Nuclear　and　Radiochemistr 　 2015 6 y Jun.2015 电刷镀法制备大面积241Am放射源 , , 1 2 1 ∗ 1 1 1 1 , , , , , 喻正伟叶宏生林敏陈克胜夏文徐利军　　 , ; , 1.中国原子能科学研究院计量测试部北京　102413 2.环境保护部核与辐射安全中心北京　100082 : , , 摘要以分子电镀法制备放射源的技术为基础结合当前应用广泛的电刷镀技术开展了电刷镀法制备大面 241 。 , , 积 Am放射源的研究和传统的放射源制备方法相比该方法突破了电镀槽的限制可以任意选择源的活 , 、 , 性面积并且通过控制阳极镀笔在阴极上作可控制的有规律的二维往复移动克服了传统电镀中当源的活性 241 。面积较大时难以保证电镀源均匀性的缺点成功制备了一批活性面积为 100 mm×150 mm 的大面积 Am 241 , 、 , 、放射源研究了通电时间电压以及镀液酸度对放射性核素 Am 的沉积效率的影响并对源的均匀性牢固性进行了评价。 : ; ; 关键词大面积放射源分子电镀电刷镀中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TL929　　 A　　 0253-9950 2015 03-0166-05 : / doi 10.7538 hhx.2015.37.03.0166 241 Pre aration ofLar e-Area Am Source Usin Brush Platin p