氮化钛制备工艺.docVIP

镀工艺顺序为：抽真空至 6.7×10-3Pa，通入 Ar 气，当炉内压强为 2.0Pa 时基体加载负偏压-800V，进行 Ar 气溅射清洗试件表面 10min。清洗后再次抽真空至 6.7×10-3Pa，打开钛靶对试样进行轰击。钛靶轰击不但有清洗活化试件表面的作用， 还可以加热试件， 并在试件表面形成一层纳米级的纯钛过渡层， 进一步提高基体和膜层之间的结合强度。 镀膜参数为：N2分压 0.8Pa，基体加载的负偏压 0～-500V，钛靶电流为 60A，铝靶电流为 60A， 交替沉积 TiN 和 TiAlN 膜层 2.4.1 辉光清洗原理及作用 尽管待镀工件的表面进行了严格的化学清洗处理，但化学清洗很难彻底消除工件表面的含油层，且经过化学清洗之后的工件表面还会留下很薄的残留物质，加上真空室内也绝非清洁，在真空离子放电过程中这些污处会出现异常的放电现象产生污点。所以要获得高质量的镀膜还需要对工件进行辉光离子轰击清洗。放入真空室内的试样，在经抽至底真空后，充氩气到 5~10Pa，在工件上加负偏压500~600V（2~3min）后升到 900V。使氩气在低压放电的情况下形成淡紫色等离子体辉光，同时在电场作用下，具有高能量的氩离子对工件进行轰击。辉光轰击清洗一般可以在炉内不产生放电现象时停止，它的主要作用是将工件表面吸附的气体，杂质原子以及工件表面层原子碰撞下来，即活化了金属表面以提高镀膜的结合