Ni-W合金镀层及Ni-W%2fT-1复合镀层制备、表征及性能及研究.pdfVIP

摘要 铬镀层以其高硬度与优良的耐磨性在工业中有着广泛的应用，但随着环保意 识的不断加强，代铬镀层的技术的研发越来越受到重视。本论文以制备具有高硬 度高耐磨性的代铬镀层为目的，对电镀柠檬酸体系和酸性无络合剂体系Ni-W合 金镀层和Ni．W屉1复合镀层的制备工艺进行了系统研究。采用EDS、ESEM和 XRD等现代物理测试技术对镀层组成、形貌及结构进行了表征，在对镀层性能 进行测试的基础上，对相关机理进行了探讨。 考察了柠檬酸体系中Ni-W合金电沉积各工艺参数对镀层镀速、成份、表面 形貌以及镀层的硬度的影响。结果表明：添加剂C．2可以使电流效率大大提高； 柠檬酸钠可以改善镀层的形貌，增加镀层的钨含量，使镀层硬度增大。通过正交 实验得到了柠檬酸体系中Ni．W合金电沉积的最佳工艺。最佳工艺下得到的是 Ni4w合金。镀层银白，硬度680HV，应力很小，是优良的镀层。 通过对酸性无络剂体系中Ni．w脉冲电镀工艺的研究，发现反向峰值电流可 以消除镀层的氢脆，减小应力，同时还会使镀层钨含量降低。随着镀液中钨酸钠 浓度的增加，镀速明显减慢，镀层中钨含量逐渐增多，硬度增大，但是镀层的内 应力也会同时增大。通过XRD测试得出，钨含量的增多有利于晶粒的细化，使 镀层表面变得细致。 考察了酸性无络剂体系中各工艺参数对Ni．W爪1复合镀层微粒复合量、钨 含量、硬度及镀层的耐磨性能的影响。发现，随着T-1浓度的增加镀层中T-l复 合量逐渐增加，最后略有减小，这样就会导致在复合镀层硬度和耐磨性方面出现 最优值。另外T-1复合微粒与钨的沉积会有互相抑制的作用。与瓦特镍镀层和 Ni．w合金镀层相比，复合镀层的稳态极化曲线正移，耐腐蚀性要优于前两者。 关键词： Ni-W合金Ni．W／T-1复合镀层电沉积硬度耐磨 ABSTRACT Hard-chromiumhasbeenused m fortheexcellenthardnessand widelyindustry wearresistance．To whichcan hard-chromiumhasattract preparingcoatings replace considerableinterestforthe attentiononenvironment．Inthis the increasing thesis and of Ni-W and preparation,characterizationpropertieselectrodepositingalloy Ni—W／T-1 isstudiedina without inorderto composite electrolytesystem pollution obtain with resistanceandcorrosion coatingshighhardness，abrasive resistance．EDS， ESEMandXRD areusedto the and techniques investigate composition,surface structureof of aretested coatings．Thepropertiescoatings by tester andelectrochemical factorshowtoinfluencethe measuringsystem．The of isalsodiscussed． propertiescoatin