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co基软磁膜的高频性质

摘要 近年来,随着电子元器件向小型化、高频化、集成化方向发展,对作为电子器件基 础的材料提出了更高的要求。为了适应磁性器件的需要,具有高磁导率并至GHz共振 频率的软磁薄膜成为磁性材料研究领域的最新热点。由于磁性薄膜在存储材料,读写磁 头方面的应用,它们的磁各向异性场和动态响应越来越引起人们的关注。为了提高数据 的存储速率,反磁化过程被最大程度的控制,这种技术的要求导致了一些基础磁性的研 究,例如各向异性场,饱和磁化强度,甚至有效阻尼因子。 我们在室温条件下利用射频磁控溅射方法制备了Co.Zr薄膜。发现利用斜溅射的方 法在Co薄膜中掺入微量的Zr元素导致更加良好的软磁性能和高频响应,矫顽力小至l Oe,共振频率达到4.3GHz。我们利用自由各向异性模型定性解释了这种优化主要来源 于Co颗粒之间的交换耦合的增大。因此,单个颗粒的磁晶各向异性场被抑制。并且, 对于利用斜溅射制各的样品来说,斜溅射诱导的各向异性场对样品的静、动态磁性起决 定性因素。也就是说,可以通过调控溅射角度来在位控制静动态磁性。 我们也利用斜溅射的方法制备了Co-Nb.Nd软磁薄膜。阻尼因子是决定动态响应和 磁谱虚部共振峰半高宽的主要因素,其随着Nd含量的增加明显增加。拟合磁谱得到 量级。 关键词:磁控溅射,软磁薄膜,高频性能,阻尼因子 Abstract Inrecent the ofelectronic towardsthedirectionof years,withdeveloping components the foundationofelectronic materials,the miniaturization,high-frequency,andintegrated was theneedsof forward ordertomeet components put higherrequirements.In magnetic soft with hasbecome thinfilms and devices,the highpermeabilityhighfrequency magnetic thelatesthotareaofresearchof materials.The of magnetic dynamicresponsemagnetic materialsisoffundamentalinterestandisessentialforvarious inmodem applications to ratesthe orderachieveultrafastdata technology.In magneticstorage magnetization toamaximum has reversal hastobecontrolled demand process

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