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硅表面微光栅结构的纳秒激光干涉刻蚀研究 中文摘要 硅表面微光栅结构的纳秒激光干涉刻蚀研究 中文摘要 微光栅结构的制作一直是微加工领域的一个研究热点。由于制作的 光栅周期很小，以及成本、环境要求、工艺复杂程度和运行效率等因素， 目前适合工业化生产的微光栅结构制作方法较少。本文主要开展了采用 纳秒激光干涉刻蚀的方法在硅片表面直接制作微光栅结构的研究，完成 了相关的实验和测试。 本文的研究内容和主要成果归结如下： 1．微光栅结构的衍射情况非常复杂，介绍了对其进行分析的理论方法， 给出了严格耦合波分析法(RWCA)对光栅微结构各级衍射效率的计算公 式。使用了Rsofi软件的DiffractMOD工具进行数值模拟。 2．以半导体泵浦全固态激光器(DPSSL)为光源，利用位相光栅进行分束， 搭建了多光束纳秒紫外激光干涉刻蚀系统，进行了在硅片表面直接刻蚀 微光栅结构的实验。 3．双光束干涉刻蚀实验制作了周期0．55}tm的一维微光栅结构，测量了 不同脉冲个数刻蚀的样品对于不同波长的入射光的反射情况。结果显示， 硅片经刻蚀后的光反射少于未经刻蚀的情况，制作的微光栅结构起到了