稀土共掺杂化物的光致发光的研究.pdfVIP

摘要 稀土共掺杂氧化物的光致发光的研究 堑翌堂系 趟鐾查塑堡专业 学生姓名』墅赴指导老师整量亟麴援 摘要 随着人类社会进入21世纪，社会的发展和科学技术的进步使人类对信息的 需求越来越多，光通讯将成为下一代通讯的解决方案。位于1．541xm的铒离子(E，+) 内层4厂电子的发光波长在光通讯技术的发展中起了巨大作用。纳米晶硅(Si-NC) 在可见光区的吸收截面非常大，是Er的一万多倍，所以它被认为是Er的有效宽 带光敏化剂之一。当E，引入Si-NC作为宽带敏化剂时，Er3+的间接激发截面可 达7x10．17 膜材料有明显提高。而随着当前光通讯需求的日益增大，为了对常规波段(1530． 1565 来制备Er，Tm稀土共掺的薄膜材料，实现在1．4．2．0波长范围内的宽带发光。 基于以上背景，本文主要围绕稀土氧化物薄膜的PL特性，研究了用磁控溅射方 法制备的若干种稀土共掺氧化物薄膜，取得了如下结果： 1．Er，Si共掺杂三氧化二铝薄膜 A1203相对较高的折射率可以更有效的限制光线的