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脉冲激光沉积Pr3+掺杂SrTi03和CaTi03薄膜发光性能研究 中文摘要 为环境友好和高化学稳定的低压荧光粉而受到关注。同时，其薄膜因较粉末具有更好 的热稳定性和分辨率等优点而对低压场发射等显示器件具有重要意义。本论文采用两 的发光。二是采用对薄膜中氧空位的调控，来实现SrTi03：pr3+薄膜红光发射的增强。 首先，我们使用脉冲激光沉积(PLD)法在有Si02过渡层的硅片衬底上制备了 CaTi03：Pr3+薄膜，并把他们的微观结构和发光性能与直接沉积在硅片上的薄膜进行比 较。Si02过渡层是分别通过热氧化和HF腐蚀的两种方法制备。实验发现沉积在si02 过渡层上的CaTi03：pr3+薄膜发光强度比普通硅片上的薄膜有显著增加(达到8倍)， 在排除界面相起作用的基础上，我们提出发光增强是由于Si02过渡层的低折射率和 SolidFilms。 薄膜的红色发光，同时不改变薄膜的表面粗糙度。这一工作已发表于Thin 氧空位在SrTi03的禁带中会稳定一个自限的空穴能级，从而在室温下表现出光 致或电致蓝光发射。如果此时SrTi03中同时含有Pr”掺杂，则有红光发射，两者之