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Cr掺杂ZnO薄膜的结构和性质研究 中文摘要 中文摘要 氧化锌(ZnO)作为一种新的半导体材料越来越吸引更多研究人员的关注，它的晶 nm，c=0．52073 格常数为a=0．32533 nm，ZnO具有六方纤锌矿结构，每个锌原子在 四面坐标系里都被四个氧原子围绕着。由于(002)晶面的表面自由能最低，ZnO通常具 等优良的性能，使它在光电器件领域具有广泛的应用前景。近年来过渡金属(TM— 阔的应用前景。 l 采用CS．400型三靶射频磁控溅射仪在Si(11)和石英基片上成功制备了Znl喂CrxO 陋O，O．03，0．09)薄膜，并对不同Cr掺杂量的ZnO膜进行了结构和光学性质的研究。 薄膜的晶体取向和表面形貌用Rigaku Cr掺杂量的增多，晶粒尺寸减小，表面粗糙度下降，结晶质量变高，同时通过计算 发现薄膜的晶格常数c也随之增加。 fcthu)2与胁关系图发现随着Cr掺杂量的增加，薄膜的带隙宽度Eg也随之增加。 在样品的PL光谱上发现伴随着C